镀膜机厂家介绍光学监控法的特点

真空镀膜机膜厚的监控方法较多，目前较新的方法是光学监控法，其相对于的传统的石英晶体微量平衡法来说，光学监控法更具有准确性，因为传统的测试的方法很难阻止传感器跌入这个敏感区域，从而对膜层造成较大的误差。下面镀膜机厂家就来为大家介绍一些光学监控法的特点。

光学监控法可以有效提高光学反应对膜厚度变化灵敏度的理论和方法来减少误差，提供了反馈或传输的选择模式和大范围的监测波长，光学监控法非常适合于各种膜厚的镀膜监控包括非规整膜监控。能够更准确地控制膜层厚度 。

上述所说就是镀膜机厂家为大家介绍的光学监控法的一些特点，而从中我们不难看出光学监控相比传统的监控法来说是一种更适合对真空镀膜机膜厚的监测方法。

真空电镀机灰尘处理方式

真空电镀机应用十分广泛，如今在我们的生活中到处可见，是必不可少的一项技术。但是真空电镀机在使用一段时间后，表面就会留下灰尘影响真空镀膜的整体效果，那么如何处理真空镀膜的灰尘呢？

我国真空镀膜设备现状分析

1.设备使用的源材料要符合必要的纯度要求。

2.设备样品取出后要注意放置环境的清洁问题。

3.真空镀膜一段时间后，真空室内壁必须要清洁处理。

4.真空镀膜清洗衬底材料，必须要做到严格合乎工艺要求。

5.真空镀膜适当的增加环境的湿度，有利于降低周围环境的悬浮固体颗粒物。

6.工作人员在操作时需要戴手套、脚套等，要有专门的服装。

CCZK-ION多弧离子真空镀膜机（真空电镀机系列）

由于灰尘对镀膜效果会产生比较大的影响，因此为了避免在真空电镀机中留下灰尘，应该在使用中注意以上几点来尽量避免，除此也要注意经常清洗，避免灰尘越积越多。

磁控溅射镀膜设备溅射方式

清洗过程简化

现有镀膜工艺，多数均要求事先对工件进行严格清洗，既复杂又费事。然而，离子镀工艺自身就有一种离子轰击清洗作用，并且这一作用还一直延续于整个镀膜过程。清洗效果较好，能使镀层直接贴近基体，有效地增强了附着力，简化了大量的镀前清洗工作。

想了解更多产品信息您可拨打图片上的电话进行咨询！创世威纳竭诚为您服务！

真空电镀机操作注意事项

左旋钮“1”顺时针旋转至指向2区段的加热位置。

低真空表“2”内指针顺时针移动，当指针移动至110mA时，左旋钮'1'旋转至指向2区段测量位置。

当低真空表“2”内指针再次顺时针移动至6.7Pa时，低压阀推入。这时左旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。

真空镀膜机开通冷却水，启动扩散泵，加热40min。

低压阀拉出。重复一次⑦动作程序：左下旋钮“1”转至指向2区段测量位置。低真空表“2”内指针顺时针移动，当指针移动至6.7Pa时，开高压阀（阀杆顺时针旋转）。

等低真空表“2”内指针右移动至0.1Pa时，开规管灯丝开关。

发射、零点测量钮“9”旋转至指向发射位置。

左下旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。

旋转发射调节钮“4”，使高压真空表“5”内指针指向5。

发射、零点、测量旋钮“9”旋转至指向零点位置。

旋转零点调节钮“10”，让高压真空表“5”内指针指向0位置。

发射、零点、测量旋钮“9”旋转至指向测量位置。

旋转标准调节钮“3”，让高压真空表“5”内指针指向10。

旋转“倍加器”开关钮“8”至指向10-12，当高压真空表“5”内指针逆时针左移超过1时，再把“倍加器”开关旋钮“8”旋转至指向10-3。