中诺新材可提供的常规陶瓷靶材如下:
氧化铝靶 Al2O399.99%
氧化铪靶 HfO299.99%
氧化镁靶 MgO99.99%
氧化硅靶 SiO299.999%
氧化钽靶 Ta2O599.99%
氧化钛靶 TiO299.99%
氧化锌靶 ZnO99.99%
氟化镁靶 MgF99.99%
硫化锌靶 ZnS99.99%
氮化钛靶 TiN99.9%
氮化铝靶 AlN99.9%
氮化硼靶 BN99.9%
碳化硅靶 SiC99.9%
常备现货的靶材尺寸:
φ50.8mm φ60mm
φ80mm,
φ100mm φ101.6mm
其它尺寸圆靶、方靶可定制
陶瓷靶材质脆,受热不均易碎,推荐绑定铜背靶,以增强靶材导热性能,提供靶材利用率
半导体化合物材料
我们可提供半导体行业所需常用氧化物,硒化物,锑化物,硫化物,碲化物等。
氧化物:氧化锌 氧化铟 氧化铋 氧化碲
硫化物:硫化锌 硫化钨 硫化钼 硫化锡 硫化锑 硫化锗 硫化银
硒化物:硒化锌 硒化铋 硒化锗 硒化镉 硒化锑 硒化锡 硒化铟 硒化钨
锑化物:锑化铋 锑化锡 锑化铟
碲化物:碲化铜(CuTe) 碲化铟 InTe 碲化锌(ZnTe) 三碲化二铋(Bi2Te3),二氧化碲(TeO2). 碲化锑 碲化锌 碲化锗
多元化合物:铜铟硒 铜锌锡硫 锗锑碲
纯度:99.99-99.9999
状态:粉末 颗粒
可根据需求,高纯铂厂家定制靶材、颗粒、块,定制不同比例的靶材
随着材料行业的快速发展,新型合金材料潜力巨大。高温合金,高熵合金,非晶合金等各种特殊要求合金对熔炼原料的要求越来越高。中诺新材可根据客户不同炉体坩埚对投料数量的要求,定制加工各种高纯度,高纯铂,不同规格的金属原料。
分类——常规规格——适用范围
标准颗粒——φ2*5mmφ3*3mmφ6*6mm 10*10*2mm——投料量小,纯度要求高,配比要求准确
破碎小块——1-10mm 2-6mm 3-5mm——投料量小,纯度要求较高,化学化工专用高纯金属高纯铂,配比要求准
切割大块——1-3cm 3-5cm <10cm——投料量大,生产***高纯铂靶 铂块 铂颗粒,纯度要求高
批量块锭——25kg/桶 100kg/件——投料量大,纯度要求不高,可***加工处理
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