常见的真空镀膜材料

氧化物一氧化硅SiO，二氧化硅SiO2，二氧化钛TiO2，二氧化锆ZrO2，二氧化铪HfO2，一氧化钛TiO，五氧化三钛Ti3O5，五氧化二铌Nb2O5，五氧化二钽Ta2O5，氧化钇Y2O3，氧化锌ZnO等高纯氧化物镀膜材料。

其它化合物硫化锌ZnS，硒化锌ZnSe，氮化钛TiN，真空镀膜系统哪家好，碳化硅SiC，钛酸镧LaTiO3，钛酸钡BaTiO3，钛酸锶SrTiO3，钛酸镨PrTiO3，硫1化镉CdS等真空镀膜材料。

金属镀膜材料高纯铝Al，高纯铜Cu，高纯钛Ti，高纯硅Si，高纯金Au，高纯银Ag，高纯铟In，高纯镁Mg，高纯锌Zn，高纯铂Pt，高纯锗Ge，高纯镍Ni，高纯金Au，金锗合金AuGe，金镍合金AuNi，镍铬合金NiCr，钛铝合金TiAl，锌铝合金ZnAl，铝硅合金AlSi等金属镀膜材料。　

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ST系列镀膜机

ST系列镀膜机系我司标准化产品，满足大部分实验室科研需求，丰富的可选配置也可响应您的特殊需要。特点：1、集成一体化结构。

2、极限真空度高，可达7×10-5Pa，可保证更高的镀膜纯净度，提高镀膜质量。

3、从大气到工作背景真空（7×10-4Pa）时间短，30分钟左右（充干燥氮气）。 系统停泵关机12小时后真空度：≤8Pa。

4、整机采用柜式结构，密封性能好，防尘防水，安全。

5、磁控、热蒸发多种镀膜方式可选。

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蒸发镀膜

一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。厚度均匀性主要取决于：

1、基片材料与靶材的晶格匹配程度

2、基片表面温度

3、蒸发功率，速率

4. 真空度

5. 镀膜时间，厚度大小

组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

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