光刻胶 FUTURREX厂家***发货
作者:赛米莱德2020/10/16 4:17:40






光刻胶编码

HS编码:


3707100001 [类注] | [章注] | [子目注释]

中文描述: 不含银的感光乳液剂 (CIQ码:301:液体)
英文描述: Non--0--silver light-sensitive emulsion agent
申报要素: 0.品牌类型;1.出口享惠情况;二、预烘和底胶涂覆(Pre-bakeandPrimerVapor)由于光刻胶中含有溶剂,所以对于涂好光刻胶的硅片需要在80度左右的。2.用途;3.包装;4.成分;5.是否含银;6.品牌;7.型号;8.是否有感光作用(以下要素仅上海海关要求)9.GTIN;10.CAS
申报要素举例: / 1.感光剂;2.用途:感光材料,用于喷墨制版机;3.包装:瓶装;4.成分:重氮树脂94%以上;5.无品牌;6.无型号
单位: 千克


PR1-1500A1光刻胶 FUTURREX厂家

正性光刻胶的金属剥离技术

正性胶的金属剥离工艺对于获得难腐蚀金属的细微光刻图形比常规的光刻胶掩蔽腐蚀法显示了优越性。光刻工艺重要性二光刻胶的***波长由宽谱紫外向g线→i线→KrF→ArF→EUV(13。本文首先对金属剥离工艺中的正、负光刻胶的性能作了对比分析。认为正性光刻胶除图形分辨率高而适应于微细图形的掩膜外,它还具有图形边缘陡直, 去胶容易等独特性能,比负性光刻胶更有利于金属剥离工艺。然后给出了具体的工艺条件,并根据正性光刻胶的使用特点指出了工艺中的关键点及容易出现的问题。如正性光刻胶同GaAs表面的粘附性较差,这就要求对片子表面的清洁处理更为严格。为了高止光刻图形的漂移控制光刻图形的尺寸,对***时同特别是显影液温度提出了严格的要求。由于工艺中基本上不经过腐蚀过程,胶膜的耐腐蚀性降到了次要地位。


?Futurrex

提供***化学技术的多样化解决方案

成立于1985年,总部设在美国新泽西州,富兰克林市,高速成长并超过20年连续盈利的跨国公司

公司业务覆盖范围包括北美,亚太以及欧洲

基于多样化的技术

应用领域:微电子、光电子、LED、太阳能光伏、微机电系统、生物芯片、微流体、平面印刷

解决方案:的光刻胶、掺杂涂层、平坦化涂层、旋制氧化硅(spin-onglase)。阻挡层(Barrior Layere)、湿法制程

客户:从财富100强到以风险***为背景的设备研发及制造公司

使命

目标

提供特殊***和全新工艺来增加客户的产能

策略

提供独特的产品来优化生产制程,以提高设备能效

领的技术提升生产过程中的整体性价比

工艺步骤的减少降低了成本和产生瑕疵的可能

增加客户的产能和生产的效率

工艺减化

非同寻常的显微构造、金属及介电层上的图形转换、光刻、平坦化、掺杂、蚀刻、邦定

在生产过程中,不含***溶剂

支持所有客户的需要,与客户共创成功


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