正胶PR1-2000A1技术资料
正胶PR1-2000A1是为***波长为365 或者436纳米,可用于晶圆步进器、扫描投影对准器、近程打印机和接触式打印机等工具。PR1-2000A1可以满足对附着能力较高的要求,在使用PR1-2000A1时一般不需要增粘剂,如HMDS。
相对于其他的光刻胶,PR1-2000A1有如下的一些额外的优势:
PEB,不需要后烘的步骤;
较高的分别率;
快速显影;
较强的线宽控制;
蚀刻后去胶效果好;
在室温下有效期长达2年。
光刻胶编码 HS编码: | 3707100001 [类注] | [章注] | [子目注释] |
中文描述: | 不含银的感光乳液剂 (CIQ码:301:液体) |
英文描述: | Non--0--silver light-sensitive emulsion agent |
申报要素: | 0.品牌类型;1.出口享惠情况;2.用途;3.包装;4.成分;5.是否含银;6.品牌;7.型号;8.是否有感光作用(以下要素仅上海海关要求)9.GTIN;10.CAS |
申报要素举例: | / 1.感光剂;2.用途:感光材料,用于喷墨制版机;3.包装:瓶装;4.成分:重氮树脂94%以上;5.无品牌;6.无型号 |
单位: | 千克![]() |
光刻胶趋势
半导体光刻胶领域***市场规模趋于稳定,光刻胶, 2017年***市场约13.5亿美元;国内市场约20.2亿元,光刻胶 PR1-4000A1 ,近5年复合增速达12%。受***半导体市场复苏和国内承接产业转移,预计***光刻胶市场将保持稳定增速,国内市占率稳步抬升。
光刻胶生产、检测、评价的设备价格昂贵,需要一定前期资本投入;光刻胶企业通常运营成本较高,下游厂商认证采购时间较长,为在设备、研发和技术服务上取得竞争优势,光刻胶 PR1-500DP??,需要足够的中后期资金支持。企业持续发展也需投入较大的资金,光刻胶行业在资金上存在较高的壁垒,国外光刻胶厂商相对于国内厂商,其公司规模更大,光刻胶PR1-1500A1 ?,具有资金和技术优势。
总体上,光刻胶行业得到***层面上的政策支持。《***集成电路产业发展推进纲要》,提出“研发光刻机、刻蚀机、离子注入机等关键设备,开发光刻胶、大尺英寸硅片等关键材料”;******支持的高新技术领域(2015)中提到“高分辨率光刻胶及配套***作为精细***重要组成部分,是***发展的新材料技术”;光刻技术(包括光刻胶)是《中国制造 2025》***领域。
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