Futurre***刻胶

北京赛米莱德贸易有限公司供应美国Futurrex新型lift-off光刻胶NR9-3000PY，此款负胶的设计适用于比较宽的波长范围和i线（366纳米）***工具。当显影后NR9-3000PY显示出负的侧壁角度，负性光刻胶供应商，是lift-off工艺中比较简易的光刻胶。和其他胶相比NR9i-3000PY有下面的优势：

PR1-2000A1负性光刻胶

4，***

前烘好的存底放在光刻胶衬底放在光刻机上，经与光刻版对准后，进行***，接受光照的光刻胶发生化学变化，形成潜影，

光源与光刻胶相匹配，也就是光源波长在光刻胶的敏感波段；

对准：指光刻板上与衬底的对版标记应准确对准，这样一套光刻版各版之间的图形才能彼此套准。

***时间，由光源强度，光刻胶种类，厚度等决定，

另外，为降低驻波效应影响，可在***后需进行烘焙，称为光后烘焙（PEB）

光刻胶介绍

光刻胶是一种对光线、温度、湿度十分敏感的材料，负性光刻胶价格，可以在光照后发生化学性质的改变，负性光刻胶，这是整个工艺的基础。

光刻胶有不同的类型，PMMA（PMGI）以及DNQ（酚醛树脂）等材料都可以做光刻胶。

目前光刻胶市场上的参与者多是来自于美国、日本、韩国等***，包括 FUTURREX、陶氏化学、杜邦、富士胶片、信越化学、住友化学、LG化学等等，中国公司在光刻胶领域也缺少核心技术。

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