五、***
在这一步中,光刻胶厂家,将使用特定波长的光对覆盖衬底的光刻胶进行选择性地照射。光刻胶中的感光剂会发生光化学反应,从而使正光刻胶被照射区域(感光区域)、负光刻胶未被照射的区域(非感光区)化学成分发生变化。这些化学成分发生变化的区域,在下一步的能够溶解于特定的显影液中。
在接受光照后,正性光刻胶中的感光剂DQ会发生光化学反应,变为乙烯酮,近红外光刻胶厂家,并进一步水解为茚并羧酸(Indene-Carboxylic-Acid, CA),羧酸在碱性溶剂中的溶解度比未感光部分的光刻胶高出约100倍,产生的羧酸同时还会促进酚醛树脂的溶解。利用感光与未感光光刻胶对碱性溶剂的不同溶解度,就可以进行掩膜图形的转移。
***方法:
a、接触式***(Contact Printing)掩膜板直接与光刻胶层接触。
b、接近式***(Proximity Printing)掩膜板与光刻胶层的略微分开,大约为10~50μm。
c、投影式***(Projection Printing)。在掩膜板与光刻胶之间使用透镜聚集光实现***。
d、步进式***(Stepper)
30.想请教国产光刻胶不能达到膜厚要求,进口的有没有比较好的光刻胶啊?
都可以啊!goodpr是大陆比较多公司采用的,
但是Futurre 光刻胶在国外是比较有名气的,厚光刻胶厂家,包括很多大型企业都有用,膜厚做的也
比较厚从18um-200um都 可以做到,看你对工艺的要求了。
光刻胶品牌FUTURRE光刻胶产品属性:
1 FUTURRE光刻胶产品简要描述及优势:
1.1 Futurre光刻胶黏附性好,无需使用增粘剂(HMDS)
1.2 负性光刻胶常温下可保存3年
1.3 150度烘烤,缩短了烘烤时间
1.4 单次旋涂能够达到100um膜厚
1.5 显影速率快,100微米的膜厚,仅需6~8分钟
光刻胶介绍
光刻胶(又称光致抗蚀剂),是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、x射线等光源的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻材料。光刻胶具有光化学敏***,其经过***、显影、刻蚀等工艺,可以将设计好的微细图形从掩膜版转移到待加工基片。因此光刻胶微细加工技术中的关键性化工材料,被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作。生产光刻胶的原料包括光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、单体和其他助剂等。
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