光刻胶 - 光刻胶 NR9-8000 -赛米莱德
作者:赛米莱德2020/4/2 5:04:14

市场规模

中国半导体产业稳定增长,***半导体产业向中国转移。据WSTS和SIA统计数据,2016年中国半导体市场规模为1659.0亿美元,增速达9.2%,大于***增长速度(1.1%)。2016年中国半导体制造用光刻胶市场规模为19.55亿元,其配套材料市场规模为20.24亿元。预计2017和2018年半导体制造用光刻胶市场规模将分别达到19.76亿元和23.15亿元,其配套材料市场规模将分别达到22.64亿元和29.36亿元。在28nm生产线产能尚未得到释放之前,ArF光刻胶仍是市场主流半导体应用广泛,需求增长持续性强。近些年来,***半导体厂商在中国大陆投设多家工厂,如台积电南京厂、联电厦门厂、英特尔大连厂、三星电子西安厂、力晶合肥厂等。诸多半导体工厂的设立,也拉动了国内半导体光刻胶市场需求增长。


NR9-3000PY

四、对准(Alignment)

光刻对准技术是***前一个重要步骤作为光刻的三大核心技术之一, 光刻胶 NR9-8000 ,一般要求对准精度为***细线宽尺寸的 1/7---1/10。随着光刻分辨力的提高 ,对准精度要求也越来越高 , 光刻胶 ,例如针对 45am线宽尺寸 , 光刻胶 NR26-8000P,对准精度要求在5am 左右。

受光刻分辨力提高的推动 ,对准技术也经历 迅速而多样的发展 。从对准原理上及标记结 构分类 , 光刻胶 NR21-20000,对准技术从早期的投影光刻中的几何成像对准方式 ,包括视频图像对准、双目显微镜对准等,一直到后来的波带片对准方式 、干涉强度对准 、激光外差干涉以及莫尔条纹对准方式 。从对准信号上分 ,主要包括标记的显微图像对准 、基于光强信息的对准和基于相位信息对准。


光刻胶编码

HS编码:


3707100001 [类注] | [章注] | [子目注释]

中文描述:不含银的感光乳液剂 (CIQ码:301:液体)
英文描述:Non--0--silver light-sensitive emulsion agent
申报要素:0.品牌类型;1.出口享惠情况;2.用途;3.包装;4.成分;5.是否含银;6.品牌;7.型号;8.是否有感光作用(以下要素仅上海海关要求)9.GTIN;10.CAS
申报要素举例:/ 1.感光剂;2.用途:感光材料,用于喷墨制版机;3.包装:瓶装;4.成分:重氮树脂94%以上;5.无品牌;6.无型号
单位:千克

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