正负光刻胶

正负光刻胶

光刻胶分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。正胶的图像与掩模板的图像是一致的，光刻胶，故此叫正胶，利用这种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。

一般来说线宽的用正胶，线窄的用负胶! 正性光刻胶比负性的精度要高，负胶显影后图形有涨缩，负性胶限制在2~3μm.，而正性胶的分辨力优于0.5μm 导致影响精度，正性胶则无这方面的影响。虽然使用更薄的胶层厚度可以改善负性胶的分辨率，但是薄负性胶会影响孔。同种厚度的正负胶，在对于抗湿法和腐蚀性方面负胶更胜一筹，光刻胶 PR1-200A，正胶难以企及。赛米莱德提供美国Futurrex的光刻胶的供应与技术参数。

NR77-15000PY光刻胶光刻胶

光刻胶稳定性

化学稳定性：在正常储存和操作条件下，在密闭容器中室温稳定。

避免的条件: 火源、湿气、过热的环境。

不相容的其他材料: 强氧化剂。

光刻胶毒理资料

淡***液体，气味微弱。引起皮肤、眼睛、粘膜和呼吸道的刺激。可以通过皮肤吸收而引起全身性的症状。液体是可燃的。

毒性数据

皮肤：可以通过皮肤吸收而引起全身性的症状，类似于吸入。长时间或重复接触可引起轻度至中度的刺激或皮炎。

眼睛：引起眼睛发炎。

吸入：吸入时可能***。引起呼吸道刺激。蒸气可能导致困倦和头晕。

摄食：吞食***。

延迟效应：肝和肾损害，以及动物实验中有报道血液和GU髓有影响。

发展

Futurrex在开发产品方面已经有很长的历史

我们的客户一直在同我们共同合作，光刻胶 PR1-500DP，创造出了很多强势的专利产品。

在晶体管(transistor) ，封装，微机电。显示器，OLEDs，波导(w***eguides) ，VCSELS，

成像，光刻胶 PC3-1500，电镀，纳米碳管，微流体，芯片倒装等方面。我们都已经取得一系列的技术突破。

目前Futurrex有数百个专利技术在美国专利商标局备案。

Futurrex 产品目录

正性光刻胶

增强粘附性正性光刻胶

负性光刻胶

增强粘附性负性光刻胶

***工艺负性光刻胶

用于lift-off工艺的负性光刻胶

非光刻涂层

平坦化，保护、粘接涂层

氧化硅旋涂(spin-on glas)

掺杂层旋涂

辅助***

边胶清洗液

显影液

去胶液

Futurrex所有光刻产品均无需加增粘剂(HMDS)

光刻胶 PC3-1500-赛米莱德-光刻胶由 北京赛米莱德贸易有限公司提供。 北京赛米莱德贸易有限公司（www.semild.com）在工业制品这一领域倾注了无限的热忱和热情，赛米莱德一直以客户为中心、为客户创造价值的理念、以品质、服务来赢得市场，衷心希望能与社会各界合作，共创成功，共创辉煌。相关业务欢迎垂询，联系人：况经理。