高纯水设备应用领域　

化工材料的生产和加工过程所用的溶剂及清洗过程用纯水

　　超纯材料和超纯化学***纯水

　　实验室和中试车间用纯水

　　电子半导体、集成电路板上用到的化工材

　　石英、硅材料生产、加工、提纯等所使用的纯水

　　高纯墨水、传真打印机中的喷墨、纳米墨水纯水

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高纯水设备基本内容

EDI高纯水设备[1]作为制取超纯水的设备，作为反渗透设备后的二次除盐设备，可以制取出高达10-18.2MΩ.CM。因此广泛用于微电子工业，半导体工业，发电工业，制药行业和实验室。也可以作为制药蒸馏水、食物和饮料生产用水、发电厂的锅炉的补给水，以及其它应用高纯水。

EDI高纯水设备是一种具有革命性意义的水处理技术设备，它巧妙地将电渗EDI高纯水设备析与离子交换有机地结合在一起的膜分离脱盐工艺，属高科技绿色环保设备。EDI高纯水设备具有连续出水、无需酸碱再生和无人值守等优点，已在制备纯水的系统中逐步代替混床作为精处理设备使用。

EDI技术应用电再生离子交换除盐工艺取代传统混合离子交换除盐工艺。通过离子交换树脂及选择性离子膜达到高脱盐效果，与反渗透结合的联合工艺使产水水质可达10~15MΩ·CM的高规格产水。

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高纯水设备运行维护

共创富来***生产、销售高纯水设备，我们为您分析该产品的以下信息。

EDI高纯水设备的良好的长期运行不仅依赖于系统的初期设计，而且取决于正确的运行和维护。这包含系统的初期启动和运行过程中的启动/停机。为了保持系统的长期良好运行，北京实验室纯水设备，需要对系统运行数据进行定期记录，以便日后日常运行维护。而且日常运行维护数据对于在设备故障判断和决定采取何种措施方面有重要意义。

测试EDI高纯水设备进水水质的下列指标：

　　进水水源：二级反渗透产水

　　进水当量电导率(包括CO2与Si)：lt;40μS/cm

　　硅：lt;1.0ppm以SiO2计

　　铁，锰，硫：lt;0.01ppm

　　氯/氯化物：lt;0.02ppm以Cl2计

　　硬度：lt;1.0ppm以CaCO3计

　　溶解的有机物：lt;0.5ppm TOC中的C计

　　PH值：4-11

　　较大进水压力bar：(1-45℃)

　　标准流量下压差：1.4-2.1bar

　　标准回收率：90-95%

　　较高进水温度：45℃

　　较低进水温度：5℃

　　直流电压(V)：0-600

　　直流电流(A)：0-6

　　运行启动：

　　一旦EDI高纯水设备系统已经启动，每次的停机和重启动都意味着压力和流量的变化，实验室纯水设备报价，以及对EDI模块的机械性冲击。因此，系统的停机和重启动的次数应当尽可能的少，以保证EDI系统的平稳运行。在系统启动之前和过程中的检查应当作为一种日常工作进行，并且做好工作记录。

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