真空镀膜设备背压检漏法背压检漏法是一种充压检漏与真空检漏相结合的方法，真空镀膜设备中多用于封离后的电子器件、半导体器件等密封件的无损检漏技术中。其检漏过程基本上可分为充压、净化和检漏三个步骤。(1)充压过程是将被检件在充有高压示漏气体的容器内存放一定时间，如被检件有漏孔，示漏气体就可以通过漏孔进入被检件的内部，并且将随浸泡时间的增加和充气压力的升高，被检件内部示漏气体的分压力也必然会逐渐升高。(2)净化过程是采用干燥氮气流或干燥空气流在充压容器外部或在其内部喷吹被检件。如不具备气源时也可使被检件静置，以便去除吸附在被检件外表面上的示漏气体。在净化过程中，因为有一部分气体必然会从被检件内部经漏孔流失，从而导致被检件内部示漏气体的分压力逐渐下降，而且净化时间越长，示漏气体的分压降就越大。(3)检漏过程则是将净化后的被检件放入真空室内，将检漏仪与真空室相连接后进行检漏。抽真空后由于压差作用，示漏气体即可通过漏孔从被检件内部流出，然后再经过真空室进入检漏仪，按检漏仪的输出指示判定漏孔的存在及其漏率的大小。真空镀膜机镀膜技术和湿式镀膜技术随着科学技术的发展，真空镀膜技术成为了各行各业提高产品质量的手段，真空镀膜所需费用较低经济效益显著让越来越多的企业跃跃欲试，我国生产的真空镀膜机已经达到了相当水平，可以镀制的真空镀膜材料也越来越多，但和国外的设备对比也存在着一点差距，对于真空技术的研发有待提高。真空镀膜技术的膜材选材广泛，可以控制膜的厚度并镀制不同功能和性能的薄膜，就能使材料具备许多新的化学和物理性能。湿式镀膜技术是过去的一种镀膜方式，即化学镀或者电镀，是应用化学还原的原理沉积在材料上，这种方法会产生废液污染环境，以往很多电镀设备厂因为污染问题纷纷转变镀膜工艺。真空镀膜技术镀制的薄膜，膜层不易受到污染，在真空环境中可以提高纯度和致密性，不产生废液不污染环境。真空镀膜本身污染，但是实际镀制中会用到有机涂料，所以也会产生污染，然而相比湿式电镀技术，污染小很多，真空镀膜技术生产效率高具有很强的生命力，但也不是说真空镀膜技术就可以完全取代传统的湿式镀膜技术了，在膜层的厚度，耐老化上湿式镀膜法仍然占据优势，真空镀膜镀制的膜层比较薄。另外，牢固的膜层是受工艺和附着力所影响，不管是真空镀膜技术还是湿式镀膜技术，如果材料表面没有清洁干净都会影响膜层和材料的结合。真空镀膜设备选购要点分析真空镀膜设备选购要点分析如下：1、炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。2、根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备，其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。3、夹具运转形式有自转、公转及公转自转方式，用户可根据基片尺寸及形状提出相应要求，转动的速度范围及转动精度：普通可调及变频调速等。4、真空系统由机械泵、扩散泵、油增压泵、增扩泵、罗茨泵、埚轮分子泵等及与它们相匹配的各种气动、手动、电动阀门、管道等组成。5、根据工艺要求选择镀制方式及形式，如电阻蒸发（钨丝、钼舟、石墨舟）磁控源（同轴圆柱型磁控源、园柱型平面磁控源、矩型平面磁控源等）以靶材材质及尺寸多弧源（Ф60，Ф80直径靶材，气动、电动的引弧等），真空测量可选择数字式智能真空计及其优质的测量规管，及其它测量仪器，如自动压强控制仪等。膜厚测量可选用方块电阻测量仪，透过率计等。6、充气方式可选用质量流量计、浮子流量计针阀及相应的充气阀门，并可选择多路充气管路及相应流量参数。7、根据需烘烤的结构提出烘烤温度、材质以及所需配备相应仪表测量。8、根据设备使用特点，可选择手动、半自动、全自动或其组合的控制方式。9、完善的报警系统，对真空室体、扩散泵断相、缺水、气压、电源负载的过压、过流等异常情况进行声光报警。)