真空镀膜机离子镀是什么?很多人听说过离子真空镀膜机，但是对于真空镀膜机离子镀了解甚少，离子镀是一种镀膜工艺中的一种，下面为大家详细介绍一下：首先给大家它定义：蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。它的原理是：蒸发源接阳极，工件接阴极，当通以三至五千伏高压直流电以后，蒸发源与工件之间产生辉光放电。由于真空罩内充有惰性Ar气，在放电电场作用下部分Ar气被电离，从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的Ar离子受阴极负高压的吸引，猛烈地轰击工件表面，致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出，从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。随后，接通蒸发源交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，进入辉光放电区并被电离。带正电荷的蒸发料离子，在阴极吸引下，随同Ar离子一同冲向工件，当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。它能分为四类：①磁控溅射离子镀。②反应离子镀。③空心阴极放电离子镀。④多弧离子镀。它的特点：镀层附着性能好，对离子镀后的试件作拉伸试验表明，一直拉到快要断裂时，镀层仍随基体金属一起塑性延伸，无起皮或剥落现象发生；绕镀能力强，因此这种方法非常适合于镀复零件上的内孔、凹槽和窄缝，等其他方法难镀的部位；镀层质量好，离子真空镀膜机镀膜的镀层***致密、无孔、无气泡、厚度均匀；清洗过程简化。光学真空镀膜设备该如何进行***光学真空镀膜设备主要由真空镀膜机室、真空抽气机组限及电柜（控制电柜、电子枪电枢）组成，其广泛应用于微电子、光学成膜、民用装饰、表面工程等领域。光学真空镀膜设备在防止油污染和缩短工作周期等方面具有***的性能。光学真空镀膜设备工作原理是在高真空状态下、利用电子束对金属或非金属材料加热到适当的温度，材料受热后蒸发成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸发源至被蒸发基片距离大，蒸发出来的蒸汽分子向四处直射，碰到基片就沉积在基片表面形成腊层。离子真空镀膜机镀膜应用范围介绍***近很多客户关于离子真空镀膜机相关知识，问的问题各不相同，但是从这些问题里面能发现一个问题，客户对离子镀膜机相关知识了解甚少，只是停留在基础表面，因此在和我们沟通的过程中，会出现沟通不是很顺利，因为我们需要详细的介绍很多***性的问题。今天至成真空小编趁着这个机会，为大家详细介绍一下离子真空镀膜机镀膜应用范围，这样大家以后也知道离子真空镀膜机后期能运用到哪些行业，及离子镀膜机能镀什么产品。1、离子真空镀膜机镀膜的应用范围：半导体集成电路、光导纤维、太阳能电池、太阳能热水器、太阳灶、光盘、磁盘、敏感元件、平板显示器、选择吸收玻璃、智能窗玻璃、***植入部件等功能薄膜；2、离子镀膜技术应用范围：工模具超硬涂层、航天轴承、机械零件；汽轮机叶片的耐蚀涂层；装饰件、手机配件。3、离子镀薄膜的膜层结构：单源单层：氮化钛涂层TiN、TiC、ZrN、CrN、AlN等。硬度约1800—2600Hv；多元单层：TiCN、TiAlN等。硬度2200—2800Hv；复合涂层：TiN/TiCN、TiN/TiCN/TiN、TiN/ZrN、TiN/CrN、TiN/AlN、TiN/C3N4、TiN/C3N4/DLC等。硬度3500—4500Hv；4、纳米结构涂层；多层膜中的每一层厚度为nm,也称之为“调制周期”。各层可以是化合物/化合物，也可以是金属非晶/纳米金属化合物，如：nc-TiN/a-Si3N4、Ti-Al-N、Ti-B-N等。调制周期6.8—30nm，硬度可达4700—10000Hv（47—100GPa）。要求镀膜机的配置能够满足沉积薄膜的厚度为0.2—5μm的纳米多层膜。)