真空镀膜机镀铝时,应该注意哪些事项用真空镀膜设备镀铝膜，基本工艺流程为：预真空─离子清洗─镀铝─离子轰击─镀保护膜─放气。预真空对镀膜室抽真空至5×10，2Pa时，充入Ar气430mL，利用2个适当的电极间的低压辉光放电产生的离子轰击达到清洗和辅助预热镀膜基底的作用，轰击时间为150s;镀铝部分蒸发器快速升至高温，铝丝从预热、熔化、蒸发镀铝到镀铝完成的时间为30s多;采用二次离子轰击，去除膜表面粒状颗粒，使膜层更加致密，轰击时间为80s;镀保护膜时间为(200amp;plu***n;50)s，真空度为3amp;times;10?2Pa，由充入的硅油流量加少量Ar气来控制真空度，硅油流量由调节阀控制，直至放气结束。真空镀膜技术优点清洗过程简化：现有真空镀膜机PVD涂层镀膜工艺，多数均要求事先对工件进行严格清洗，既复杂又费事。然而，离子镀工艺自身就有一种离子轰击清洗作用，并且这一作用还一直延续于整个镀膜过程。清洗效果良好，能使镀层直接贴近基体，有效地增强了附着力，简化了大量的镀前清洗工作。可镀材料广泛：离子镀由于是利用高能离子轰击工件表面，使大量的电能在工件表面转换成热能，从而促进了表层***的扩散作用和化学反应。然而，整个工件，特别是工件心部并未受到高温的影响。因此这种镀膜工艺的应用范围较广，受到的局限性则较小。通常，各种金属、合金以及某些合成材料、绝缘材料、热敏材料和高熔点材料等均可镀复。即可在金属工件上镀非金属或金属，也可在非金属上镀金属或非金属，甚至可镀塑料、橡胶、石英、陶瓷等。什么是光学镀膜：光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。光学镀膜原理：真空镀膜真空镀膜：真空镀膜主要是指需要在更高真空下进行的涂料，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等多种涂料，所以。蒸发和溅射有两种主要类型。将被镀材料制成基材，将电镀材料用作靶材或***。衬底处于与靶相同的真空中。蒸发涂层通常是加热目标，以使表面组分以自由基或离子的形式蒸发，并通过成膜方法（散射岛结构-梯形结构-层状生长）沉积在基材的表面上，薄膜。对于溅射状涂层，很容易理解目标材料是用电子或高能激光器轰击的，表面组分以自由基或离子的形式溅射，***后沉积在基底表面上***终形成一部薄膜。常见的光学镀膜材料有以下几种：1、二氧化硅材料特点：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高质量Si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。2、氧化锆材料特点白色重质结晶态，具有高的折射率和耐高温性能，化学性质稳定，纯度高，用其制备高质量氧化锆镀膜，不出崩点。)