光刻胶国内的研发起步较晚光刻胶的研发，关键在于其成分复杂、工艺技术难以掌握。光刻胶主要成分有高分子树脂、色浆、单体、感光引发剂、溶剂以及添加剂，开发所涉及的技术难题众多，需从低聚物结构设计和筛选、合成工艺的确定和优化、活性单体的筛选和控制、色浆细度控制和稳定、产品配方设计和优化、产品生产工艺优化和稳定、***终使用条件匹配和宽容度调整等方面进行调整。因此，要自主研发生产，技术难度非常之高。在光刻胶研发上，我国起步晚，2000年后才开始重视。近几年，虽说有了快速发展，光刻胶NR9-2000P，但整体还处于起步阶段。事实上，工艺技术水平与国外企业有着很大的差距，尤其是材料及设备都仍依赖进口。NR77-25000P光刻胶表征光刻胶特性和性能、质量的参数有以下三个：(1)光学性质。光刻胶的光学性质包括光敏度和折射率。(2)力学特性和化学特性。光刻胶的力学特性和化学特性包括胶的固溶度、黏滞度、黏着度、抗蚀(刻蚀、腐蚀)性、热稳定性、流动性和对环境气氛(如氧气)的敏感度。(3)其他特性。光刻胶的其他特性包括胶的纯度、胶内的金属含量、胶的可应用范围、胶的储存有效期和胶的燃点。11．请教~有没有同时可以满足RIEprocess和Lift-offprocess的光阻，谢谢！A我们推荐使用FuturrexNR1-300PY来满足以上工艺的需求。12．Futurre光刻胶里，有比较容易去除的负光阻吗？ANR9-系列很容易去除，可以满足去胶需要。13．我们目前用干膜做窄板，解析度不够，希望找到好的替代光阻？ANR9-8000因为有很高的AR比例，***适合取代，在凸块的应用上也有很大的好处。14．传统的Colorfilter制程，每个颜色的烘烤时间要2-3个小时，有没有更快的方法制作Coiorfilter?A用于Silylation制程------烘烤时间只需要2分钟，光刻胶NR9-2000PY，同时光阻不需要Reflow，颜色也不会老化改变，只需要在Filter上面加热溶解PR1-2000S光阻，光刻胶NR9-1500P，Microlenses就能形成！15．请问有专门为平坦化提供材料的公司吗？A美国Futurrex公司，专门生产应用***的，可以为平坦化的材料提供PC3-6000和P***-1000都是为平坦化用途设计，台湾企业用的比较多。16．我需要一种可用于钢板印刷的方式来涂布PROTECTIVECOATING，那种适合？？A推荐美国Futurrex，P***-10000。17．腊是用来固定芯片的，但很难清洗干净，哪里有可以替代的产品介绍下，谢谢？A我们公司是使用FuturrexPC3-6000，可以替代的，而且去除比较容易，光刻胶，你可以试用下。18．请问有没有100微米厚衬底为镀镍硅并可用与MEMS应用的光刻胶吗？ANR4-8000P可以做到140微米的厚度，并在镀镍的衬底上不会出现难去胶的问题，如果是其他非镀镍衬底NR9-8000P是适合的选择。19．谁有用在光波导图案的光刻胶？是否可以形成角度为30度的侧壁？A你必须实现通过逐步透光来实现掩膜图案棱的印刷，NR4-8000P是专门为光波导图案应用进行设计的产品。赛米莱德(图)-光刻胶NR9-2000P-光刻胶由北京赛米莱德贸易有限公司提供。北京赛米莱德贸易有限公司（）实力雄厚，信誉可靠，在北京大兴区的工业制品等行业积累了大批忠诚的客户。公司精益求精的工作态度和不断的完善创新理念将***赛米莱德和您携手步入辉煌，共创美好未来！)