中诺新材可根据您的需求，为您定制不同化合物，不同比例的掺杂靶材。通过球磨制粉，3N4N高纯钼靶材钼靶厂家供，共沉积制粉，真空热压烧结，常压烧结等工艺，可保证靶材掺杂比例准确，掺杂相单一，致密度高。部分定制靶材如下：氧化铟锡ITOIn2O3:SnO2=90:10wt%氧化锌铝AZOZnO:Al2O3=98:2wt%铜铟硒CIGSCu:In:Ga:Se=1:0.7:0.3:2at%氧化锌掺杂氧化镁等氧化铟锌IGZOIn:Ga:Zn=2:2:1at%钛锆酸铅PZTPb1.2Zr0.52Ti0.48O3锗锑碲GSTGe:Sb:Te=2:2:5at%脆性，难熔的金属材料，我公司采用高纯度粉末为原料，通过热压、烧结、热等静压等工艺成锭，经过热处理，机械处理及精密的机加工工艺，制得晶粒细小（其平均晶粒尺寸lt;100μm），***均匀，致密度高的高品质靶材。常规产品如下：商品名称纯度(%)常规尺寸高纯铬靶材99.599.95常规现货靶材尺寸：φ50.8mm，φ60mm，3N5高纯钼片钼丝钼颗粒，φ101.6mm靶材常规厚度2-6mm可定制加工不同尺寸的圆靶、方靶高纯钨靶材99.9599.999高纯钼靶材99.9599.99高纯钽靶材99.9599.99高纯铌靶材99.9599.99定制化生产是中诺新材的一大特色。以***的生产设备，规范的加工流程，经验丰富的技术人员为后盾，我们可定制化生产加工不同纯度规格尺寸的产品。高纯箔材片材：厚度0.01-3.00mm高纯丝材棒材：直径0.01-10mm坩埚蒸发耗材：钨，高纯钼靶材钼靶，钼，高纯钼，钽，石墨，氮化硼等坩埚，各尺寸蒸发线圈。蒸发舟。单晶衬底基片：不同尺寸，电阻单晶硅片。石英衬底，金属单晶基片高纯钼靶材钼靶-高纯钼-中诺新材由中诺新材（北京）科技有限公司提供。行路致远，砥砺前行。中诺新材（北京）科技有限公司（）致力成为与您共赢、共生、共同前行的战略伙伴，更矢志成为其它较具影响力的企业，与您一起飞跃，共同成功!)