半导体化合物材料我们可提供半导体行业所需常用氧化物，硒化物，锑化物，高纯钼，硫化物，碲化物等。氧化物:氧化锌氧化铟氧化铋氧化碲硫化物:硫化锌硫化钨硫化钼硫化锡硫化锑硫化锗硫化银硒化物:硒化锌硒化铋硒化锗硒化镉硒化锑硒化锡硒化铟硒化钨锑化物:锑化铋锑化锡锑化铟碲化物:碲化铜(CuTe)碲化铟InTe碲化锌(ZnTe)三碲化二铋(Bi2Te3)，二氧化碲(TeO2).碲化锑碲化锌碲化锗多元化合物:铜铟硒铜锌锡硫锗锑碲纯度：99.99-99.9999状态：粉末颗粒可根据需求，定制不同比例的靶材中诺新材拥有真空感应熔炼炉、悬浮熔炼炉等多种***生产设备，可提供各种常规高纯金属及合金。我公司采用***的锻造及热处理工艺，实现对靶材晶粒度的控制，并通过精密的机械加工工艺，制备出纯度高、晶粒细小、***均匀的高品质靶材。常规产品如下：商品名称纯度(%)常规尺寸高纯铝靶材99.99999.9995高纯钛靶材99.995高纯钴靶材99.95高纯铁靶材99.9599.99高纯铟靶材99.995高纯锡靶材99.99高纯锆靶材99.599.9高纯铪靶材99.95高纯钒靶材99.95常规现货靶材尺寸：φ50.8mm，φ60mm，φ101.6mm靶材常规厚度2-6mm可定制加工不同尺寸的圆靶、方靶中诺新材可根据您的需求，高纯钼块现货供应，为您定制不同化合物，高纯钼靶材钼合金靶材供应，不同比例的掺杂靶材。通过球磨制粉，共沉积制粉，真空热压烧结，高纯钼靶材定制，常压烧结等工艺，可保证靶材掺杂比例准确，掺杂相单一，致密度高。部分定制靶材如下：氧化铟锡ITOIn2O3:SnO2=90:10wt%氧化锌铝AZOZnO:Al2O3=98:2wt%铜铟硒CIGSCu:In:Ga:Se=1:0.7:0.3:2at%氧化锌掺杂氧化镁等氧化铟锌IGZOIn:Ga:Zn=2:2:1at%钛锆酸铅PZTPb1.2Zr0.52Ti0.48O3锗锑碲GSTGe:Sb:Te=2:2:5at%高纯钼-中诺新材-高纯钼靶材定制由中诺新材（北京）科技有限公司提供。“蒸发镀膜材料,高纯有色金属,高纯金属材料,金属材料”就选中诺新材（北京）科技有限公司（），公司位于：北京市海淀区上地东路25号3层8单元319，多年来，中诺新材坚持为客户提供好的服务，联系人：赵艳。欢迎广大新老客户来电，来函，亲临指导，洽谈业务。中诺新材期待成为您的长期合作伙伴！)