NR77-15000PY光刻胶光刻胶光刻胶稳定性化学稳定性：在正常储存和操作条件下，在密闭容器中室温稳定。避免的条件:火源、湿气、过热的环境。不相容的其他材料:强氧化剂。光刻胶毒理资料淡***液体，气味微弱。引起皮肤、眼睛、粘膜和呼吸道的刺激。可以通过皮肤吸收而引起全身性的症状。液体是可燃的。毒性数据皮肤：可以通过皮肤吸收而引起全身性的症状，类似于吸入。长时间或重复接触可引起轻度至中度的刺激或皮炎。眼睛：引起眼睛发炎。吸入：吸入时可能***。引起呼吸道刺激。蒸气可能导致困倦和头晕。摄食：吞食***。延迟效应：肝和肾损害，以及动物实验中有报道血液和GU髓有影响。NR9-1000py问题回馈：1．我们是LED制造商，麻烦推荐几款可以用于离子蚀刻和Lift-off工艺的光刻胶。A据我所知，Futurrex有几款胶很，NR7-1500PNR7-3000P是专门为离子蚀刻设计的，NR9-3000PY可以用于Lift-off上的应用。2．请问有没有可以替代goodpr1518，Micropure去胶液和goodpr显影液的产品？A美国光刻胶，Futurrex正胶PR1-2000A，去胶液RR4，和显影液RD6可以解决以上问题。3．你们是否有可以替代ShipleyS1805的用于DVD的应用产品？A我们建议使用FuturrexPR1-500A，它有几个优点：比较好的解析度，比较好的线宽控制，反射比较少，不需要HMDS，RIE后去除容易等~4．求助，耐高温的光阻是那一种？AFuturrex，NR7serious(负光阻)Orpr1serious(正光阻)，再经过HMCTSsilyiationprocess，可以达到耐高温200度，PSPI透明polyimide，光刻胶NR5-8000，可耐高温250度以上。5．厚膜光阻在镀金应用上，用哪一种比较理想？AFuturrex，NR4-8000P比干膜，和其他市面上的湿膜更加适合，和理想。6．请教LIFT-OFF制程哪一种光阻***适合？A可以考虑使用Futurrex，正型光阻PR1，负型光阻用NR1amp;NR7，它们都可以耐高温180度，完全可以取代一般制作PATTERN的光阻。7．请问，那位***知道，RIEMask，用什么光阻比较好？A正型光阻用PR1系列，负型光阻使用NR5，光刻胶NR21-20000P，两种都可以耐高温180度。8．一般厚膜制程中，哪一种光阻***适合？ANR9-8000P有很高的深宽比（超过4：1），一般厚膜以及，MEMS产品的高需求。9．在DEEPRIE和MASK可以使用NRP9-8000P吗？A建议不使用，因为使用NR5-8000更加理想和适合。10．我们是OLED，光刻胶，我们有一种制程上需要一层SPACER，光刻胶NR9-3000PY，那种光阻***适合？A有一种胶很适合，美国Futurrex生产的NR1-3000PYand和NR1-6000PY，都适合在OLED制程中做spacers光刻胶市场据统计资料显示，2017年中国光刻胶行业产量达到7.56万吨，较2016年增加0.29万吨，其中，中国本土光刻胶产量为4.41万吨，与7.99万吨的需求量差异较大，说明我国供给能力还需提升。国内企业的光刻胶产品目前还主要用于PCB领域，代表企业有晶瑞股份、科华微电子。在半导体应用领域，随着汽车电子、物联网等发展，会在一定程度上增加对G线、I线的需求，利好G线、I线等生产企业。预计G线正胶今后将占据50%以上市场份额，I线正胶将占据40%左右的市场份额，DUV等其他光刻胶约占10%市场份额，给予北京科华、苏州瑞红等国内公司及美国futurrex的光刻胶较大市场机会。光刻胶NR9-3000PY-赛米莱德-光刻胶由北京赛米莱德贸易有限公司提供。光刻胶NR9-3000PY-赛米莱德-光刻胶是北京赛米莱德贸易有限公司（）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：况经理。)