公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！什么是菲林...菲林film方∶胶卷，摄影用的感光片和胶卷，电影用软片，是旧时对film的翻译，现一般是指胶卷，也可以指印刷制版中的底片。0.1mm厚度的软片菲林都是黑色的，菲林的边角一般有一个英文的符号，是菲林的编号，标明该菲林是C、M、Y、K中的哪一张，是cmyk的其中一个（或专色号），表示这张菲林是什么色输出的，如果没有，可以看挂网的角度，来辨别是什么色。旁边的阶梯状的色条是用来进行网点密度校对的。还有一种0.175mm后的银盐菲林统称光绘黑片，有遮光度和透光度的要求，即黑白分明（一般遮光度gt;4.0，透光度小宇0.04）。其镭射光源为650~670纳米的红色激光，类似高i端的富士XPR-7S级别菲林，线宽精度可以做到±1.5um级别；尺寸涨缩影响随环境变化，每1℃温度或每1%RH湿度改变，变化系数约为0.001%。公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！光刻和刻蚀有什么区别？这两个词是半导体工艺中的重要步骤，需要配合剖面图讲解，***i好自己找本半导体工艺的书看。“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质，易于腐蚀。“刻蚀”是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉（正胶），晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀，形成半导体器件及其电路。什么是光刻掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精i确***，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝i光的一种结构，称为光刻掩模版。半导体集成电路制作过程通常需要经过多次光刻工艺，在半导体晶体表面的介质层上开凿各种掺杂窗口、电极接触孔或在导电层上刻蚀金属互连图形。光刻工艺需要一整套（几块多至十几块）相互间能精i确套准的、具有特定几何图形的光复印掩蔽模版。微麦光电有限公司(多图)-湖州掩膜版由苏州微麦光电有限公司提供。微麦光电有限公司(多图)-湖州掩膜版是苏州微麦光电有限公司（）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：马经理。)