常见的产生等离子体的方法是气体放电，所谓气体放电是指通过某种机制使一电子从气体原子或分子中电离出来，形成的气体媒质称为电离气体，如果电离气由外电场产生并形成传导电流，这种现象称为气体放电。根据放电产生的机理、体的压j源性质以及电极的几何形状、气体放电等离子体主要分为以下几种形式：①辉光放电；③介质阻挡放电；④射频放电；⑤微波放电。无论哪一种形式产生的等离子体，都需要高压放电。容易打火产生***。由于对诸如气态污染物的治理，废气处理设备公司，一般要求在常压下进行。各企业生产过程中会排放大量的有机废气，废气处理设备，其中含废气的排放是非常多见的。对于含废气的处理，采用***多的方法是活性炭吸附。传统的活性炭吸附工艺多采用普通固定单层吸附装置，使用的吸附剂多为颗粒活性炭，不仅吸附回收率低，而且设备使用寿命短，***和运行费用高，经济效益低。我们结合某药厂200t/a精奎禾灵生产中的咪鲜胺化脱水咪鲜铵锰盐压滤工序排放的含废气的处理实践，介绍一种利用活性炭纤维吸附装置处理含废气的工艺。该工艺采用独特的吸附装置和操作，用活性炭纤维做吸附剂，使的吸附效率达97%以上。该装置采用全自动控制，运行可靠。废气成分及处理要求该废气中含有氮、氧、二氧化碳及少量水蒸汽，其中的质量浓度为200g/m3。废气流量为200m3/h，排气温度为30℃，排气压力为101.3kPa。要求的吸附效率大于95%。光催化和生物净化设备光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成没毒无害的产物，而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁，废气处理设备厂，即使用常规的催化、氧化方法亦需要几百度的高温。从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能，就足以激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂。常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，如CdS半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，废气处理设备价格，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，Ti02的综合性能较好，是***广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。)