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Ga2O3靶材氧化***靶材磁控溅射靶材
京迈研厂家***科研实验专用Ga2O3靶材氧化***靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料纯度99.99%产品介绍氧化***的别名是三氧化二***,氧化***(Ga2O3)是一种宽禁带半导体,Eg=4.9eV,其导电性能和发光特性长期以来一直引起人们的注意。Ga2O3是一种透明的氧化物半导体材料,在光电子器件方面有广阔的应用前景,被用作于Ga基半导体材料的绝缘层,以及紫外线滤光片。它还可以用作O2化学探测器。氧化***是***的氧化物中***稳定的。在空气中加热金属***使之氧化,或在200-250℃时焙烧硝酸***、氢氧化***以及某些***的化合物都可形成Ga2O3。产品参数中文名氧化***分子式Ga2O3分子量187.44密度是5.53g/cm3陶瓷靶材采用常压烧结,气氛烧结,热等静压烧结等工艺,严格控制原料的纯度,成分及成型坯料额设计尺寸,坯料经过精密机械加工成靶材,可根据客户要求定制加工特殊掺杂比例靶材。产品优势靶材纯度高,致密度高,成分均匀产品规格图片靶材,矩形靶材,圆柱靶材,台阶片靶材,管型靶材,根据客户的图纸定制产品用途磁控溅射镀膜材料等产品附件正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发票产品包装真***装/真空中性包装/特殊包装外加固包装适用仪器各类型号磁控溅射设备厂家优势厂家***收货后7日内可协商退换货靶材种类齐全)