
苏州掩膜板
光刻板业内又称光掩模版、掩膜版,光罩,掩膜板,英文名称MASK或PHOTOMASK),材质:石英玻璃、金属铬和感光胶,该产品是由石英玻璃或者苏打玻璃作为衬底,在其上面镀上一层金属铬和感光胶。(感光胶又称光致抗蚀剂,是利用光化学反应进行图形转移的媒体性精细***,根据不同的用途性能等有多种型号,目前光掩模版大多数都是用的正性胶。光刻正性胶在经激光照射后,曝i光区的邻重氮萘醌化合物发生光解反应重排成羧酸,使胶膜加速溶于稀碱水溶液。)把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝i光在感光胶上,被曝i光的区域会被显影出来,在金属铬上形成电路图形,成为类似曝i光后的底片的光掩模版,然后应用于对集成电路进行投影***,通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻,其生产加工工序为:曝i光,显影,去感光胶,***后应用于光蚀刻。目前***范围内光刻掩膜版主要以***生产商为主。由于下游应用领域厂商自建光刻掩膜版生产线的投入产出比很低,且光刻掩膜版行业具有一定的技术壁垒,所以光刻掩膜版都是由***的生产商进行生产。据统计:根据SEMI,目前***半导体光刻掩膜版市场规模近34亿美元,即210亿人民i币。未来光刻掩膜版市场增长速度将在5%左右。2015年我国光掩膜版需求市场规模为56.7亿元,2016年国内需求市场规模增长至59.5亿元,规模较上年同期增长4.9%。从我国光掩膜版的需求量来看,行业需求稳定增长,2016年需求量达到了7.98万平方米。苏州制版位于苏州工业园区生物纳米园,是集研究、设计、生产、销售于一体,***制作高精度掩膜版的企业,拥有高标准的全净化厂房,优i秀的高素质人才、***的研发团队。苏州制版,面向中小企业、大学、研究所客户,提供包括全系列精度和面积的铬版和菲林版!根据客户的构想、草图,独i家定制版图提供技术咨询服务!苏州制版提供包括全系列精度和面积的铬版和菲林版,目前投入生产有多台激光直写设备以及电子束曝i光设备。常规铬版CD精度±0.2um,高精石英铬版精度±0.07um。菲林版分辨率20um以上精度±2um。曝i光设备外,还拥有全自动显影柜,可以批量进行显影处理,保证生产能力。在图形检验阶段我们拥有自动光学检验机台(AOI),通过图形逻辑对比分析取样,修补能力1.2um,精度±0.1um。可以有效地排除缺陷问题。苏州掩膜板由苏州微麦光电有限公司提供。苏州掩膜板是苏州微麦光电有限公司()今年全新升级推出的,以上图片仅供参考,请您拨打本页面或图片上的联系电话,索取联系人:马经理。)