科研实验专用 高纯金属钒靶材 V靶材 磁控溅射靶材
厂家***科研实验专用高纯金属钒靶材V靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料纯度99.99%产品介绍钒是一种银***的金属。熔点1890&plu***n;10℃,属于高熔点稀有金属之列。它的沸点3380℃,纯钒质坚硬,无磁性,具有延展性,但是若含有少量的杂质,尤其是氮,氧,氢等,能显著降低其可塑性。产品参数高纯钒靶材元素符号:V颜色:银白色密度:6.11g/cm3熔点:1535℃制作工艺:真空磁悬浮熔炼,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工纯度:≥99.9%形状:平面靶,旋转靶规格尺寸:可定制产品应用:平板显示、玻璃及装饰镀膜、磁数据存储、半导体及微电子、太阳能光伏工业级镀膜,实验或研究级别用钒靶材Vtarget,电子,光电,装饰,功能薄膜等均接受订购适用仪器:各类型号磁控溅射设备等产品优点:真空熔炼,提纯制备,纯度高,杂质少;轧制致密,氧化少,成型可塑;相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高质量可靠,价格优惠产品规格图片靶材,矩形靶材,圆柱靶材,台阶片靶材,管型靶材,根据客户的图纸定制产品用途磁控溅射镀膜材料等产品附件正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发票产品包装真***装/真空中性包装/特殊包装外加固包装适用仪器各类型号磁控溅射设备厂家优势厂家***收货后7日内可协商退换货靶材种类齐全)
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