促进中国CMP抛光液行业发展的宏观因素及微观因素分析
2025年中国CMP抛光液消费量将达到9653万升CMP抛光液又叫CMP研磨液,或CMP磨料,是平坦化工艺中研磨材料和化学添加剂的混合物,CMP抛光液一般由超细固体粒子研磨剂(如纳米级SiO2、Al2O3粒子等)、表面活性剂、稳定剂、氧化剂等组成。固体粒子提供研磨作用,化学氧化剂提供腐蚀溶解作用。抛光液的主要用途为:用于各类集成电路、蓝宝石及其他领域等的抛光过程,是用来辅助抛光、保护硅片免受划伤的一种必备化学耗材。生产端来看在***半导体领域,国内厂商目前主要是安集微电子一家,公司客户遍及除大陆之外的美国、欧洲、新加坡、马来西亚、台湾等地区,其中包括数家***知名的晶圆制造企业如,中芯国际、台积电和Intel等。半导体用CMP抛光液技术壁垒高,市场集中度极高,***产品主要被日美企业垄断。在中低端领域已基本国产化。国内厂商如上海新安纳电子科技有限公司,湖北海力天恒纳米科技有限公司,深圳市力合材料有限公司,湖南皓志科技股份有限公司,无锡易洁工业介质有限公司等,占有重要地位。2017年中国CMP抛光液产量达到了538万升,预计2025年将达到4100万升;2017年产值为1.37亿元,预计2025年达到10亿元,2018-2025年复合增长率为21.9%。从消费端来看国内市场芯片用抛光液主要由CabotMicroelectronics、DowElectronicMaterials、FujimiIncorporated、AirProducts/VersumMaterials、Fujifilm、HitachiChemical和安集微电子等主导。中低端市场,蓝宝石抛光液等主要由国内公司主导。2017年中国CMP抛光液消费量达到了2137万升,预计2025年将达到9653万升。恒州博智发表《2018年中国市场CMP抛光液发展研究报告》该报告提供了CMP抛光液行业的基本概况,包括定义,分类,应用和产业链结构。讨论发展政策和计划以及制造流程和成本结构。报告***关注***主要地区行业参与者,包括公司简介,产品图片和规格,销售,市场份额和联系信息等信息。更重要的是,分析CMP抛光液行业发展趋势和营销渠道。提供了关于行业现状的主要统计数据,对于对市场有兴趣的公司和个人来说是一个宝贵的指导和方向。QYResearch是一家拥有***研究团队的公司,可为各个行业的顾客提供优质***的市场报告需求。***网站:https://.cn电话咨询:020-86655165邮箱:holly@)
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