目前***范围内光刻掩膜版主要以***生产商为主。由于下游应用领域厂商自建光刻掩膜版生产线的投入产出比很低，且光刻掩膜版行业具有一定的技术壁垒，所以光刻掩膜版都是由***的生产商进行生产。据统计：根据SEMI，目前***半导体光刻掩膜版市场规模近34亿美元，即210亿人民i币。未来光刻掩膜版市场增长速度将在5%左右。2015年我国光掩膜版需求市场规模为56.7亿元，2016年国内需求市场规模增长至59.5亿元，规模较上年同期增长4.9%。从我国光掩膜版的需求量来看，行业需求稳定增长，2016年需求量达到了7.98万平方米。在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。用选定的图像、图形或物体，对处理的图像（全部或局部）进行遮挡，来控制图像处理的区域或处理过程。用于覆盖的特定图像或物体称为掩模或模板。光学图像处理中，掩模可以是胶片、滤光片等。数字图像处理中，掩模为二维矩阵数组，有时也用多值图像。公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，光刻板，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！光绘菲林尺寸涨缩原因分析1、温度的影响在相对湿度下，光绘菲林的尺寸随着温度的上升而涨大，温度下降而缩小，其热涨变形系数在18ppm/℃左右，也就是说当温度发生1℃的变化时，50cm长的菲林会发生9um的变化(或20寸中的0.36mil).2、湿度的影响在相对温度下，菲林的尺寸随着湿度的上升而涨大，相对湿度的降低而缩小，湿涨变形系数在10ppm/%RH右，也就是说当湿度度发生1℃的变化时，50cm长的菲林会发生5um的变化(或20寸中的0.20mil).3、胶片在光绘前没有经过预置由于胶片制造时无法预先控制胶片中的湿度与每个生产车间的湿度一致，因此使用之前应先使其与工作环境达到平衡的状况。建议预置时间为12小时，预置时必须打开胶片的内包装，使其与外界的空气充分接触。光刻板-微麦光电有限公司(图)由苏州微麦光电有限公司提供。行路致远，砥砺前行。苏州微麦光电有限公司（）致力成为与您共赢、共生、共同前行的战略伙伴，更矢志成为其它较具影响力的企业，与您一起飞跃，共同成功!)