美国Futurre光刻胶30．想请教国产光刻胶不能达到膜厚要求，进口的有没有比较好的光刻胶啊？都可以啊！goodpr是大陆比较多公司采用的，但是Futurre光刻胶在国外是比较有名气的，包括很多大型企业都有用，膜厚做的也比较厚从18um-200um都可以做到，看你对工艺的要求了。光刻胶品牌FUTURRE光刻胶产品属性：1FUTURRE光刻胶产品简要描述及优势:1.1Futurre光刻胶黏附性好，光刻胶，无需使用增粘剂（HMDS）1.2负性光刻胶常温下可保存3年1.3150度烘烤，缩短了烘烤时间1.4单次旋涂能够达到100um膜厚1.5显影速率快，100微米的膜厚，仅需6~8分钟NR77-15000P9，去胶:湿法去胶，用溶剂、用NONG***。负胶，光刻胶MC3-1200，98%H2SO4H2O2胶=COCO2H2O，正胶：BIN酮，干法去胶（ash）氧气加热去胶O2胶=COCO2H2O，等离子去胶Oxygenpla***aashing，高频电场O2---电离O-O，O活性基与胶反应CO2，光刻胶NAR2-2000，CO，H2O，光刻检验五、***在这一步中，将使用特定波长的光对覆盖衬底的光刻胶进行选择性地照射。光刻胶中的感光剂会发生光化学反应，从而使正光刻胶被照射区域（感光区域）、负光刻胶未被照射的区域（非感光区）化学成分发生变化。这些化学成分发生变化的区域，在下一步的能够溶解于特定的显影液中。在接受光照后，正性光刻胶中的感光剂DQ会发生光化学反应，变为乙烯酮，并进一步水解为茚并羧酸（Indene-Carboxylic-Acid，CA），光刻胶MC2-1200，羧酸在碱性溶剂中的溶解度比未感光部分的光刻胶高出约100倍，产生的羧酸同时还会促进酚醛树脂的溶解。利用感光与未感光光刻胶对碱性溶剂的不同溶解度，就可以进行掩膜图形的转移。***方法：a、接触式***（ContactPrinting）掩膜板直接与光刻胶层接触。b、接近式***（ProximityPrinting）掩膜板与光刻胶层的略微分开，大约为10～50μm。c、投影式***（ProjectionPrinting）。在掩膜板与光刻胶之间使用透镜聚集光实现***。d、步进式***(Stepper)光刻胶MC2-1200-光刻胶-赛米莱德(查看)由北京赛米莱德贸易有限公司提供。光刻胶MC2-1200-光刻胶-赛米莱德(查看)是北京赛米莱德贸易有限公司（）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：况经理。)