沧州催化燃烧设备RTO设备废气处理设备技术原理：活性炭是一种很细小的炭粒子，有很大的表面积，而且炭粒中海油更细小的孔--毛细管。这种毛细管具有很强的吸附能力，由于炭粒的表面积大，所以能与气体（杂质）充分接触。当这些气体（杂质）碰到毛细管被吸附，起净化作用。活性炭吸附可广泛应用于化工、电子、冶金、电镀、纺织（化纤）、食物、机械制造等职业过程中排放的酸、碱性废气的净化装置，如调味食物、制酸、酸洗、电镀、电解、蓄电池等。沧州催化燃烧设备RTO设备废气处理设备利用高性能的第三代活性炭材料—纤维状活性炭（ACF－activecarbonfilbre）作为吸附材料，SUS304不锈钢作为吸附容器，PLC控制的自动运行的一种高回收效率的***回收设备.结构紧凑、运行费用低、吸附效率高。作为吸附剂的活性炭材料，巨大的表面积是因为其有丰富的孔道结构。而影响吸附容量和吸附速度的主要取决于微孔的数量和位置。纤维活性炭丰富的位于纤维表面的微孔，使其与颗粒活性炭相比，无论从吸附速度和容量上都有很大的优势。沧州催化燃烧设备RTO设备废气处理设备工艺特点：1.采用抽屉式布置，活性炭的更换更方便；2.选用的柱状活性炭比表面积大、吸附效率高、皆能达到98%以上；3.吸附效率高，吸附容量大，适用面广；4.维护方便、无技术要求、操作简易；5.具有良好的选择性吸附，能同时处理多种混合废气；6.来源广泛、价格低廉等特点。沧州催化燃烧设备RTO设备废气处理设备光催化是指在光的作用下进行的化学反应。光化学反应需要分子吸收特定波长的电磁辐射，受激产生分子激发态，继而发生化学反应生成新的物质或变成引发热反应的中间化学产物。光催化剂是指在光的照射下，自身不起变化，却可以促进化学反应的物质。它利用光能转化成化学反应所需的能量，产生催化作用，使周围的氧气及水分子激发成很具氧化力的自由基或负离子。沧州催化燃烧设备RTO设备废气处理设备光催化氧化分为均相光催化氧化和非均相光催化氧化。均相光催化氧化主要为UV/Fenton***法。Fenton***为Fe2+和H2O2的组合，其氧化机理为Fe2++H2O2→˙OH+OH-+Fe3+Fe3++H2O2→Fe2++˙HO2+H+，因此Fenton***在水处理中具有氧化和混凝两种作用，在黑暗中就能降解有机物，节省了设备***，然而H2O2利用率不高，不能充分矿化有机物。当有光辐射(如紫外光)时，Fenton***氧化性显著提高。UV/Fenton法也叫光助Fenton法，是普通Fenton法与UV/H2O2两种系统的复合产物，降低Fe2+用量的同时保持H2O2较高的利用率，而UV和Fe2+对H2O2的催化分解存在协同效应，˙OH的生成速率远大于传统Fenton法和紫外催化分解H2O2速率的简单加和。因此UV/Fenton***法在处理难降解有机污染物时具有独特的优势，很有应用前景。非均相光催化氧化技术主要为TiO2光催化氧化技术。自从日本学者Fujishima和Honda于1972年在半导体TiO2电极上发现了水的光催化分解作用，开辟了半导体光催化这一新领域。1977年，Yokota等发现TiO2在光照条件下对丙烯环氧化具有光催化活性，从而拓宽了光催化的应用范围，为有机物氧化反应提供了一条新的思路。此后世界范围内便开始了光催化氧化技术在污水处理、空气净化、***杀毒、有机合成等方面的应用研究，半导体光催化技术受到全世界的广泛关注，并获得了快速发展，成为国际上做活跃的研究领域之一。沧州催化燃烧设备RTO设备废气处理设备不同类型有机物的光催化降解半导体光催化剂大多是n型半导体材料(当前以TiO2使用很广泛)，具有区别于金属或绝缘物质的特别的能带结构，即在价带和导带之间存在一个禁带。由于半导体的光吸收阈值与带隙具有公式K=1240/Eg(eV)的关系，因此常用的宽带隙半导体的吸收波长阈值大都在紫外区域。在光照下，如果光子的能量大于半导体禁带宽度，其价带上的电子(e-)就会被激发到导带上，同时在价带上产生空穴(h+)。当存在合适的俘获剂、表面缺陷或者其他因素时，电子和空穴的复合得以***，就会在催化剂表面发生氧化—还原反应。价带空穴是良好的氧化剂，导带电子是良好的还原剂，在半导体光催化反应中，一般与表面吸附的H2O、O2反应生成˙OH和超氧离子O2-，能够把各种有机物直接氧化成CO2、H2O等无机小分子，电子也具有强还原性，可以还原吸附在其表面的物质。激发态的导带电子和价带空穴能重新合并，并产生热能或其他形式散发掉。)