
嘉兴光刻板-微麦光电有限公司
苏州制版位于苏州工业园区生物纳米园,是集研究、设计、生产、销售于一体,***制作高精度掩膜版的企业,拥有高标准的全净化厂房,优i秀的高素质人才、***的研发团队。苏州制版,面向中小企业、大学、研究所客户,提供包括全系列精度和面积的铬版和菲林版!根据客户的构想、草图,独i家定制版图提供技术咨询服务!苏州制版提供包括全系列精度和面积的铬版和菲林版,目前投入生产有多台激光直写设备以及电子束曝i光设备。常规铬版CD精度±0.2um,高精石英铬版精度±0.07um。菲林版分辨率20um以上精度±2um。曝i光设备外,还拥有全自动显影柜,可以批量进行显影处理,保证生产能力。在图形检验阶段我们拥有自动光学检验机台(AOI),通过图形逻辑对比分析取样,光刻板,修补能力1.2um,精度±0.1um。可以有效地排除缺陷问题。光掩膜版行业的发展主要受下游平板显示行业、触控行业、半导体行业和电路板行业的发展影响,与下游终端行业的主流消费电子(手机、平板、可穿戴设备)、笔记本电脑、车载电子、网络通信、家用电器、LED照明、物联网、医i疗电子等产品的发展趋势密切相关,预计未来几年我国光掩膜版行业将向大尺寸、精细化、全产业链方向发展。2011年我国光掩膜版生产规模为0.87万平方米,2016年生产规模增长至1.69万平方米,复合增长率达到14.20%。什么是光刻掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精i确***,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝i光的一种结构,称为光刻掩模版。半导体集成电路制作过程通常需要经过多次光刻工艺,在半导体晶体表面的介质层上开凿各种掺杂窗口、电极接触孔或在导电层上刻蚀金属互连图形。光刻工艺需要一整套(几块多至十几块)相互间能精i确套准的、具有特定几何图形的光复印掩蔽模版。嘉兴光刻板-微麦光电有限公司由苏州微麦光电有限公司提供。嘉兴光刻板-微麦光电有限公司是苏州微麦光电有限公司()今年全新升级推出的,以上图片仅供参考,请您拨打本页面或图片上的联系电话,索取联系人:马经理。)