PR1-1000A1NR9-3000PY负性光刻胶负胶NR9-3000PY被设计用于i线（365nm）***，可使用如步进光刻、扫描投影式光刻、接近式光刻和接触式光刻等工具。显影之后，NR9-3000PY展现出一种倒梯形侧壁，这可以方便地作单纯的LIFT-OFF处理。NR9-3000PY相对于其他光刻胶具有如下优势：-优异的分辨率性能-快速地显影-可以通过调节***能量很容易地调节倒梯形侧壁的角度-耐受温度100℃-室温储存保质期长达3年Lift-Off工藝應用領域：LEDs，OLEDs，光刻胶NR9-1500，displays，MEMS，packaging，biochips。濕法蝕刻，鍍干法蝕刻（RIE/IonMilling/Ionimplantation）附着力好Temperatureresistance=100°C耐高溫Temperatureresistance=180°CResistThicknessNR9-3000PY负性光刻胶负胶NR9-3000PY被设计用于i线（365nm）***，可使用如步进光刻、扫描投影式光刻、接近式光刻和接触式光刻等工具。显影之后，NR9-3000PY展现出一种倒梯形侧壁，这可以方便地作单纯的LIFT-OFF处理。LCD市场助力***LCD面板总出货面积增长，LCD光刻胶需求增加。据WitsView数据，虽然近三年国际LCD厂商面板出货量有所下降，光刻胶IC1-500，但是由于大屏显示的市场扩增，LCD整体出货面积变大，2016年出货总面积达到1.7亿平方米，同比增长4.6%。随着LCD出货面积的持续增长，中国产业信息网预测，未来几年***LCD光刻胶的需求量增长速度为4%~6%。随着国内厂商占据LCD市场比重越来越大，国内LCD光刻胶需求也会持续增长。问题回馈：1．我们是LED制造商，麻烦推荐几款可以用于离子蚀刻和Lift-off工艺的光刻胶。A据我所知，Futurrex有几款胶很，NR7-1500PNR7-3000P是专门为离子蚀刻设计的，NR9-3000PY可以用于Lift-off上的应用。2．请问有没有可以替代goodpr1518，Micropure去胶液和goodpr显影液的产品？A美国光刻胶，Futurrex正胶PR1-2000A，光刻胶PR1-2000A1，去胶液RR4，和显影液RD6可以解决以上问题。3．你们是否有可以替代ShipleyS1805的用于DVD的应用产品？A我们建议使用FuturrexPR1-500A，它有几个优点：比较好的解析度，比较好的线宽控制，反射比较少，光刻胶，不需要HMDS，RIE后去除容易等~4．求助，耐高温的光阻是那一种？AFuturrex，NR7serious(负光阻)Orpr1serious(正光阻)，再经过HMCTSsilyiationprocess，可以达到耐高温200度，PSPI透明polyimide，可耐高温250度以上。5．厚膜光阻在镀金应用上，用哪一种比较理想？AFuturrex，NR4-8000P比干膜，和其他市面上的湿膜更加适合，和理想。6．请教LIFT-OFF制程哪一种光阻***适合？A可以考虑使用Futurrex，正型光阻PR1，负型光阻用NR1amp;NR7，它们都可以耐高温180度，完全可以取代一般制作PATTERN的光阻。7．请问，那位***知道，RIEMask，用什么光阻比较好？A正型光阻用PR1系列，负型光阻使用NR5，两种都可以耐高温180度。8．一般厚膜制程中，哪一种光阻***适合？ANR9-8000P有很高的深宽比（超过4：1），一般厚膜以及，MEMS产品的高需求。9．在DEEPRIE和MASK可以使用NRP9-8000P吗？A建议不使用，因为使用NR5-8000更加理想和适合。10．我们是OLED，我们有一种制程上需要一层SPACER，那种光阻***适合？A有一种胶很适合，美国Futurrex生产的NR1-3000PYand和NR1-6000PY，都适合在OLED制程中做spacers赛米莱德(图)-光刻胶IC1-500-光刻胶由北京赛米莱德贸易有限公司提供。北京赛米莱德贸易有限公司（）在工业制品这一领域倾注了无限的热忱和热情，赛米莱德一直以客户为中心、为客户创造价值的理念、以品质、服务来赢得市场，衷心希望能与社会各界合作，共创成功，共创辉煌。相关业务欢迎垂询，联系人：况经理。)