纳米二氧化硅抛光液研磨液SiO213305631332,13305631650，***:1830343958我公司系列二氧化硅抛光液产品均是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度二氧化硅抛光液，广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，抛光范围：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料***化***、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。金属镜面抛光抛光特点：具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。技术指标：型号外观粒径含量溶剂应用VK-SP10W半透明液体10nm30%水精密抛光VK-SP30W白色乳液30nm30%水精密抛光VK-SP50W白色乳液50nm30%水精密抛光包装：1kg/瓶，5kg/桶，25kg/桶)