一、设备名称：硅片气氛保护实验辊道炉二、设备用途：主要生产硅片（156x156x0.2mm）氧化性无尘生产实验三、主要技术参数3.1炉膛尺寸：1380×500×100(L×W×H)mm3.2外形尺寸：1980×1500×1100（L×W×H）mm3.3额定温度：1300℃3.4工作温度：1000℃3.5控温精度：≤&plu***n;2℃3.6炉内温差:≤&plu***n;5℃3.7炉外温度：≤&plu***n;40℃3.8控温组数：3温区3个控温表3.9工作速度：全窑按5min计算，400mm/min，3.10调速范围：120～700mm/min，3.11加热方式：电加热，炉内的上部安装3.12加热元件：硅碳棒,上部安装3.13加热功率：36KW3.14保温功率：25KW3.15加热长度：1080mm3.16炉衬材质：整条设备炉内采用刚玉材质作为炉膛3.17保温材料：轻质保温砖和纤维棉3.18保温层次:底部330mm，两侧面各350mm,炉顶400mm3.19控制柜：***全自动控制3.20设备结构：共1段3.21冷却方式：自然冷却3.22输送方式：45°斜齿轮传动3.23速度控制：无极变频控制3.24进气类别：氮气和氧气以上参数和图片可作采购参考，可根据用户日产量需求定制各种规格尺寸，图为实物拍摄，图文仅供阅读，***转载必究。前锦企业窑炉部，***硅片气氛保护实验辊道炉制造，公司拥有中日德三国工业炉技术，节能***、质量可靠、用后无忧。（买品质，选前锦）一握前锦手、永远是朋友!)