公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！光刻和刻蚀有什么区别？这两个词是半导体工艺中的重要步骤，需要配合剖面图讲解，***i好自己找本半导体工艺的书看。“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质，易于腐蚀。“刻蚀”是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉（正胶），晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀，形成半导体器件及其电路。公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！光学玻璃是指能改变光的传播方向，光罩，并能改变紫外、可见或红外光的相对光谱分布的玻璃。狭义的光学玻璃是指无色光学玻璃;广义的光学玻璃还包括有色光学玻璃、激光玻璃、石英光学玻璃。赓旭光电光学玻璃可用于制造光学仪器中的滤光片、透镜、棱镜、反射镜及窗口等。由光学玻璃构成的部件是光学仪器中的关键性元件。公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！接触式光学微影技术所使用的光罩，其表面特征图案尺寸与实际复i制于基板上的图案为1:1的比例，以直接贴近于光阻层表面的方式进行曝i光；而倍缩微影技术所使用的光罩，其表面特征图案尺寸则为实际复i制于基板上图案的数倍，经由光学系统投射的方式对光阻进行曝i光。光罩由苏州微麦光电有限公司提供。光罩是苏州微麦光电有限公司（）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：马经理。)