抗辐射光纤通过精心配制玻璃组分和完善工艺制造过程，具有抵挡辐射的功能。此类光纤具有渐变折射率剖面分布，***优化了单模光纤1310nm和1550nm、多模光纤850nm和1300nm窗口的波导特性，并具有很低的衰减和极高的带宽。本产品采用***的等离子体化学气相沉积（PCVD）工艺制造，工艺沉积控制***。产品特点●优异的抗辐射性能，辐射环境下，损耗非常稳定；●使用耐辐射材料涂覆光纤表面，优异的耐辐照性能，较高的累积辐照剂量；●抗辐射涂层保护性好、剥离性能优越；●模光纤具有低的偏振模色散（PMD），满足高速率、长距离的传输要求；●***的几何参数确保低熔接损耗和高熔接效率；产品应用●***站厂房、反应堆内部高辐射场合；●航空、航天及外层空间的强辐射场合；●根据产品设计可以适用于各种不同的高温场合；●军---事装备中，各种核动力装备的场合。)