目前***范围内光刻掩膜版主要以***生产商为主。由于下游应用领域厂商自建光刻掩膜版生产线的投入产出比很低，且光刻掩膜版行业具有一定的技术壁垒，所以光刻掩膜版都是由***的生产商进行生产。据统计：根据SEMI，目前***半导体光刻掩膜版市场规模近34亿美元，即210亿人民i币。未来光刻掩膜版市场增长速度将在5%左右。2015年我国光掩膜版需求市场规模为56.7亿元，2016年国内需求市场规模增长至59.5亿元，规模较上年同期增长4.9%。从我国光掩膜版的需求量来看，行业需求稳定增长，2016年需求量达到了7.98万平方米。光刻机可以说每个部件都是科技含量很高，步步困难重重。瓶颈主要集中在透镜、掩膜版、光源、能量控制器等。下面简单单介绍光刻机的结构和工作原理：光刻机的光源有：激光，光刻板，紫外光、深紫外光、极紫外光。现在***技术是极紫外光。下图是以激光为光源的光刻机简易工作原理图：在制造芯片时，首先在晶圆（硅晶片）表面涂光感胶，再用光线透过掩模版（相当于芯片电路图纸的底片）照射硅片表面，被光线照射到的光感胶会发生反应。此后用特定溶剂洗去被照射或者未被照射的胶，电路图就印到硅片上。此过程相当于木匠施工用墨斗放样、划线。公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！通过金属化过程，在硅衬底上布置一层仅数纳米厚的金属层。然后在这层金属上覆上一层光刻胶。这层光阻剂在曝i光（一般是紫外线）后可以被特定溶液（显影液）溶解。使特定的光波穿过光掩膜照射在光刻胶上，可以对光刻胶进行选择性照射（曝i光）。然后使用前面提到的显影液，溶解掉被照射的区域，这样，光掩模上的图形就呈现在光刻胶上。通常还将通过烘干措施，改善剩余部分光刻胶的一些性质。上述步骤完成后，就可以对衬底进行选择性的刻蚀或离子注入过程，未被溶解的光刻胶将保护衬底在这些过程中不被改变。苏州微麦光电(多图)-连云港光刻板由苏州微麦光电有限公司提供。苏州微麦光电(多图)-连云港光刻板是苏州微麦光电有限公司（）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：马经理。)