光刻机可以说每个部件都是科技含量很高，步步困难重重。瓶颈主要集中在透镜、掩膜版、光源、能量控制器等。下面简单单介绍光刻机的结构和工作原理：光刻机的光源有：激光，紫外光、深紫外光、极紫外光。现在***技术是极紫外光。下图是以激光为光源的光刻机简易工作原理图：在制造芯片时，首先在晶圆（硅晶片）表面涂光感胶，再用光线透过掩模版（相当于芯片电路图纸的底片）照射硅片表面，被光线照射到的光感胶会发生反应。此后用特定溶剂洗去被照射或者未被照射的胶，电路图就印到硅片上。此过程相当于木匠施工用墨斗放样、划线。目前***范围内光刻掩膜版主要以***生产商为主。由于下游应用领域厂商自建光刻掩膜版生产线的投入产出比很低，且光刻掩膜版行业具有一定的技术壁垒，所以光刻掩膜版都是由***的生产商进行生产。据统计：根据SEMI，目前***半导体光刻掩膜版市场规模近34亿美元，即210亿人民i币。未来光刻掩膜版市场增长速度将在5%左右。2015年我国光掩膜版需求市场规模为56.7亿元，掩膜版，2016年国内需求市场规模增长至59.5亿元，规模较上年同期增长4.9%。从我国光掩膜版的需求量来看，行业需求稳定增长，2016年需求量达到了7.98万平方米。掩膜版：通俗点理解，相当于过去用胶片冲洗照片时的底片。底片如果精度不够，是洗不出来高精度照片的。光刻机施工前，要根据设计好的芯片电路图制作掩膜板。掩膜板材质是石英玻璃，玻璃上有金属铬和感光胶。通过激光在金属铬上绘制电路图。精度要求非常高。透镜：用透镜的光学原理，将掩膜版上的电路图按比例缩小，再用光源映射的硅片上。光在多次投射中会产生光学误差。要控制这个误差。精度要求很高。就是测量台移动的控制器，也是纳米级精度，要求超高。掩膜版-苏州制版(推荐商家)由苏州微麦光电有限公司提供。掩膜版-苏州制版(推荐商家)是苏州微麦光电有限公司（）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：马经理。)