Nanonex纳米压印光刻机全自动化控制纳米压印系统Nanonex纳米压印光刻机全自动化控制纳米压印系统NX-B100多功能整片基板纳米压印系统（热压印）***大75毫米直径压印面积热压印加热速度>200℃/分钟制冷速度>60℃/分钟NX-B200多功能整片基板纳米压印系统（热压印和紫外压印）***大75毫米直径压印面积热压印和紫外压印加热速度>200℃/分钟制冷速度>60℃/分钟58mW/cm2紫外LED光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制NX-1000多功能整片基板纳米压印系统（热压印）标配4英寸,6或8英寸压印面积可选热压印加热速度>300℃/分钟制冷速度>150℃/分钟NX-2000多功能整片基板纳米压印系统（热压印和紫外压印）标配4英寸,6或8英寸压印面积可选热压印和紫外压印加热速度>300℃/分钟制冷速度>150℃/分钟200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制NX-2500Nanonex纳米压印光刻机多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印系统标配4英寸,6或8英寸压印面积可选热压印和紫外压印加热速度>300℃/分钟制冷速度>150℃/分钟200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制带对准功能（亚1微米对准精度）多层次的纳米压印对准模块<1μm3σ对准准确率X,Y,Z,Theta平台分场光学和CCD相机NX-2600多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印和高分辨率光刻系统可选背面对准标配4英寸,6或8英寸压印面积可选热压印和紫外压印加热速度>300℃/分钟制冷速度>150℃/分钟200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制带对准功能（亚1微米对准精度）多层次的纳米压印对准模块<1μm3σ对准准确率X,Y,Z,Theta平台分场光学和CCD相机标配5”模板,标配4”直径基板?其他尺寸可以提供500瓦紫外***灯光源Lumina200多功能高精度光刻机4寸基板，5寸掩膜Ultra-100多功能集成清洁和单分子层气态镀膜系统PiecestoFullWafers(2”,3”,4”,6”or8”了解更多关于Nanonex纳米压印光刻机详细信息，欢迎访问：http://.cn/mycro-SonList-1028236/http:///st119375/ml)