
全介质高反镜 单点 532nm反射镜 机器成像 思贝达科技
价格:1.00
产品特性:1、反射率相对硅反射镜较低,在10.6μm处反射率94%.2、由于其良好的导热性能,在使用在高功率激光设备时能有良好的散热,是镜片在高温度情况下也能稳定工作.3、优良的抗腐蚀能力与表面强度,可使钼反射镜在各种苛刻环境下也能正常使用,更是保证了产品的使用寿命。产品名称:532nm反射镜反射镜光学指标:1)激光灯专用全反型:0度~57度入射532n,反射大于99.8%材质:浮法玻璃、白板、石英面型:1/4入或更高光洁度:(划伤-麻点)40-20镀膜材质:TI3O5,SiO2镀膜设备:进口离子镀膜或高精度离子溅射镀膜.功能:抗高激光功率(激光损伤:20J/cm2脉冲:6ns)大角度反射(0度,30度,45度,57度反射大于99%,97%,95%以上)进口镀膜机生产,膜层牢固度超好易于清洗,随时可采用酒精等沾绒布或脱水棉花进行清洗维护.应用领域:.舞台激光灯.舞台工程激光高反镜.抗高功率激光反射系统.高精密度光学仪器.数码显微镜.激光马达振镜.投影机光学引擎.激光条码扫描仪)