网格畸变测试靶（Grids）网格阵列位于50mm×50mm，1.5mm厚度的玻璃基底上（玻璃基底上真空溅射低反射率的铬制成），100µm、250µm、500µm、1000µm和2000µm网格间距，25×25阵列。网格分布用于决定成像系统的畸变。理想情况下，网格的水平和竖直线是垂直的，畸变图像会在线上显示扭曲，这种图像可以用于修正畸变。订购信息：货号产品描述规格R1Gridswithlinepitchof2000微米，间距2000微米个R2Gridswithlinepitchof1000微米，间距1000微米个R3Gridswithlinepitchof500微米个R4Gridswithlinepitchof250微米个R10Gridswithlinepitchof100微米个)