PPC等离子清洗/去胶系统是一台台式微波等离子清洗机设备。等离子去胶机融合了下面的特点，并在众多的应用领域中得到肯定。产品特色负载循环控制，模拟功率控制处理机存储水冷底座减少污水排放安全保护设计操作简便维护方便应用范围：混合电路板制造中基片的清洗打线工艺前清洗电子部件，提高其可靠性锡焊或焊接工艺前,关键性镀金部件的清洗清洗半导体元器件光刻胶去胶上胶、印刷和其它表面浸湿操作的表面准备镀膜前对光学器件清洗清洗石英、蓝宝石及其它材料适用工艺：打线垫清洗、减少金属氧化物、清洗Pd-Ag裸芯片垫；去除光刻胶、塑料表面上胶处理、去除油渍或是环氧残留物；清洗陶瓷基片、清洗玻璃部件、清洗光学部件、清洗半导体表面、清洗镀银部件；塑胶密封剂去除--失效模式分析型号PLA***A-PREENII#862PLA***A-PREENII#973反应舱尺寸(H*W*D)203mmx152mmx50mm229x178x76mm冷却面(H*W)203mmx152mm229mmx178mm反应舱方形舱体方形舱体反应舱材质派热克斯玻璃&铝材派热克斯玻璃&铝材水冷式水冷装置水冷装置负载比10%至连续性10%至连续性标准流量5cu-ft./Hr.@STP5cu-ft./Hr.@STP频率(GHz)2.45GHz2.45GHz功率(Watts)100至750之间调节100至750之间调节重量(Kg)29.5kg38.5kg)