1.处理腔体1.1腔内尺寸：内径273mmx深度254mm；1.2腔体材质：6061-T6航空特种铝材；1.3腔体外配有观察视窗(Viewport)，可监视工艺处理状况；*1.4等离子体导入以平面多孔设计，以达等离子体均匀分布；1.5前开口设置，便于样品的放入与取出；2.电极装置*2.1水平处理电极，宽度229x深度254mmx高度152mm，3.射频装置3.1频率：13.56MHz；3.2功率：0-300W连续可调；3.3配有自动匹配网络，可自动调谐达到射频匹配***佳输出功率和***小反射功率，该射频发生器可同时显示前向与反射功率；3.4射频防护设置，避免对***造成辐射；4.真空泵浦4.1采用原装进口的Edwa***RV12F防腐双极真空泵浦；4.2抽气速率：抽气速率12m3/h；*4.3可处理***气，氮气，氧气，四氟化碳等活性或腐蚀性气体；5.处***体5.1真空范围:1~2000mTorr；5.2三套MFC气体质量流量控制单元，可同时处理三种不同的气体；*5.3气流控制范围：0-50cc/min；6.控制系统6.1基于PC系统的操作控制软件；6.2具有全自动模式；6.3具有密码保护功能)