仪器介绍Pla***aCleaner为单一制程处理腔体，使用***之平板式电浆技术，与整合型多重电浆源机构所设计的电浆制程机台，适用于各种干式清洁与表面处理制程，以及残留光阻去除等制程应用。在半导体与光电产业之干式电浆制程中提供高驾动率、低营运成本之特性。台式小型机，PLC人机自动控制，简单易用，适用于实验室及小批量工业生产中材料表面清洗、蚀刻、活化等工艺。提供三种功能配置：1.常规的等离子清洗和等离子刻蚀2.反应离子刻蚀（RIE）3.可转换结构（包含可以进行各向同性和各向异性的等离子工艺）可拆卸的托盘构造。等离子刻蚀机技术参数：设备型号：PE-200腔体尺寸：长方形腔体，长度432x深度432x高度356mm；腔体材质：T-6铝合金一体成型；腔体容积：63.6升；射频电源：13.56MHz；0~300W自动调节；工作压力范围：1-2000mT；气体流量控制：0-200cc/min带精密针阀；皮拉尼真空计：0-1Torr；可选项1.静电防护2.过程温度控制3.600W射频发生器@13.56MHz,带600W自动匹配网络4.59CFM带氧气供应真空泵（3级）5.信号灯塔6.MKS自动节流真空控制器7.2个质量流量控制器（***多3个）8.RIE(反应离子蚀刻)配置)