反渗透+EDI 制程工业用纯水机
产品型号VGT-4000L/H-2RE设备用途本纯水系统产水能力为4T/H,主要用于光学玻璃、半导体、精密零件的清洗。主要技术指标RO反渗透≤3-5μS/cm;EDI产水电阻率≥15-16MΩ·cm;抛光混床产水电阻率≥17-18MΩ·cm;用水点的供水压力为0.2-0.4MPa纯水设备的组成及描述本系统主要由以下部分组成:1)、预处理单元:原水箱、原水泵、石英砂过滤器、活性碳过滤器、保安过滤器等组成,用于除去原水中的悬浮物及胶体及吸附原水中的有机物、部分色素和***物质,降低化学耗氧量COD。2)、反渗透单元:高压泵、反渗透装置、中间水箱、PH值调节、纯水箱及反渗透膜清洗系统等组成。本单元脱盐率可达到98%以上,并能将水中的***,胶体及大分子量的有机物大部分电解质去除。3)、EDI单元:纯水泵、TOC脱除器、精密过滤器、EDI连续性电除盐、EDI电源等组成。用于进一步去除水中杂质、残留盐份及水中的金属离子。4)、抛光混床单元:4吨抛核子级树脂5)、供水单元:紫外线杀菌、精密过滤器组成,将纯水输送到使用点。6)、电控及仪表单元:主要由电器控制柜(EDI电源)、仪表仪器显示盘、在线水质检测显示器、PLC逻辑控制及触摸屏操作盘等组成。完成本系统的自动化控制、参数设置、信息储存。纯水系统说明本系统采用PLC(可编程控制器)全自动控制。设备配置测量仪表,能直观的显示各级的压力和流量,触摸屏控制面板能够直观显示两级反渗透出水的电导率、EDI出水的电阻率。采用三菱PLC控制设备运行情况,有过载、超压、缺水等故障保护和报警;设备总进水、总产水、总排水、原水电导率、一级、二级反渗透电导率及EDI出水电阻率数值等能在设备主控界面上实时显示并存储。)
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