高纯铬靶化学符号：Cr规格：根据客户需求定做！纯度：99.7%，99.9%，99.95%密度：7.2纯度：2N5--4N规格：旋转靶熔点：约1900℃原子量：51.996沸点约：2482℃波长/nm：550折色率：n=2.49（λ=546nm）n=3.21（λ=630nm）消光系数k：3.0反射率/%：55.6热导率：91W/(cm.K)线膨胀系数：6.0×10-6℃-1电阻率：12.9μΩ.cm莫氏硬度：9蒸发温度：饱和蒸汽压1.33Pa时1400℃蒸发源：W(丝、片)、C（坩埚）特点：高硬度、高熔点和沸点、强抗腐蚀性、有光泽、有延展性。机械性能和化学性质：膜附着力好，应高速率淀积，质硬而脆，耐腐蚀不溶于水。用途：用于生产金属陶瓷、***产品和耐高温非铁基合金部件。作为装饰性或功能性镀层也被广泛应用于电镀行业。铬，高纯铬，高纯铬粒，高纯铬粉，高纯铬块，铬条，铬靶，铬蒸发料，注：真空镀膜材料,陶瓷溅射靶材,金属溅射靶材,合金溅射靶材,高纯钛氧化物,陶瓷靶材,金属靶材,合金,高纯金属,稀***,金银铂钯,铟丝,锡丝,铝丝,各种化合物靶材,IZO,AZO,ITO,IZO,氧化锌,氮化钛,二硼化锆、钛酸锶,二硼化钛,二氧化铪,氧化铝,氮化硼,氮化钛,氮化硅靶、碳化硅靶,多晶硅靶、二氧化硅靶,钛靶、镍靶、铝靶,铜靶、锌靶、锡靶,锆靶、钴靶、金靶)