高纯铝靶化学符号：Al规格：Φ50.8*5、Φ76.2*5其他规格可根据客户需求定做！纯度：3N，4N，5N，6N外观：银白色原子量：26.98154蒸发温度：1220℃密度：2.7g/cm3熔点：660℃沸点：2467℃汽化温度：1082℃电阻率/μΩ？cm:2.66电阻温度系数/℃-1:4.20×10-3蒸发方式：钨丝或钼舟蒸发源材料（丝、片）:W坩埚：BN、TiC/C、TiB2-BN性能：铝膜从紫外区到红外区具有平坦而且很高的反射率，铝膜对基地的附着力比较强，由于铝膜表面总是存在着一层透明的Al2O3薄膜的保护，所以铝膜的机械强度和化学稳定性都比较好。通常真空蒸发制备的铝膜呈银***，但有时也呈黑色。基地为氧化硅薄膜（100nm厚），蒸镀铝料的纯度为99.999%。合金及相湿、钨多股绞合较好；加工性能好，可加工成任意形状；波长/nm折射率n消光系数k反射率/%2200.142.3591.82500.192.8592.03000.253.3392.13400.313.892.33800.374.2592.64360.474.8492.74920.645.5092.25460.825.4490.06501.307.1190.77001.557.0088.88001.997.0586.49501.758.5091.220002.3016.596.840005.9730.397.5600011.042.297.7800017.055.098.01000025.467.398.1应用：保护膜，反射膜，增透膜用途：超纯铝用于制造光电子存储媒体；作为集成电路的配线；石久高研金属材料期待与您的合作！)