FPC打样，设备FPC，FPC加工，沉金FPC，深圳FPC工厂FPC特点1.可自由弯曲、折叠、卷绕，可在三维空间随意移动及伸缩。2.散热性能好，可利用F-PC缩小体积。3.实现轻量化、小型化、薄型化，从而达到元件装置和导线连接一体化。FPC生产流程1.FPC生产流程:1.1双面板制程:开料→钻孔→PTH→电镀→前处理→贴干膜→对位→***→显影→图形电镀→脱膜→前处理→贴干膜→对位***→显影→蚀刻→脱膜→表面处理→贴覆盖膜→压制→固化→沉镍金→印字符→剪切→电测→冲切→终检→包装→出货1.2单面板制程:开料→钻孔→贴干膜→对位→***→显影→蚀刻→脱膜→表面处理→贴覆盖膜→压制→固化→表面处理→沉镍金→印字符→剪切→电测→冲切→终检→包装→出货2.开料2.1.原材料编码的认识NDIR050513HJY:D→双面,R→压延铜,05→PI厚0.5mil,即12.5um,05→铜厚18um,13→胶层厚13um.XSIE101020TLC:S→单面,E→电解铜,10→PI厚25um,10→铜厚度35um,20→胶厚20um.CI0512NL:(覆盖膜):05→PI厚12.5um,12→胶厚度12.5um.总厚度:25um.2.2.制程品质控制A.操作者应带手套和指套,防止铜箔表面因接触手上之汗而氧化.B.正确的架料方式,防止皱折.C.不可裁偏,手对裁时不可***冲制***孔和测试孔.D.材料品质,材料表面不可有皱折,污点,重氧化现象,所裁切材料不可有毛边,溢胶等.3钻孔3.1打包:选择盖板→组板→胶带粘合→打箭头(记号)3.1.1打包要求:单面板30张,双面板6张,包封15张.3.1.2盖板主要作用:A:防止钻机和压力脚在材料面上造成的压伤B::使钻尖中心容易***避免钻孔位置的偏斜C:带走钻头与孔壁摩擦产生的热量.减少钻头的扭断.3.2钻孔:3.2.1流程:开机→上板→调入程序→设置参数→钻孔→自检→IPQA检→量产→转下工序.3.2.2.钻针管制方法:a.使用次数管制b.新钻头之辨认,检验方法3.3.品质管控点:a.钻带的正确b.对红胶片,确认孔位置,数量,正确.c确认孔是否完全导通.d.外观不可有铜翘,毛边等不良现象.3.4.常见不良现象3.4.1断针:a.钻机操作不当b.钻头存有问题c.进刀太快等.3.4.2毛边a.盖板,垫板不正确b.静电吸附等等4.电镀4.1.PTH原理及作用:PTH即在不外加电流的情况下,通过镀液的自催化(钯和铜原子作为催化剂)氧化还原反应,使铜离子析镀在经过活化处理的孔壁及铜箔表面上的过程,也称为化学镀铜或自催化镀铜.4.2.PHT流程:碱除油→水洗→微蚀→水洗→水洗→预浸→活化→水洗→水洗→速化→水洗→水洗→化学铜→水洗.4.3.PTH常见不良状况之处理4.3.1.孔无铜:a活化钯吸附沉积不好.b速化槽：速化剂浓度不对.c化学铜：温度过低，使反应不能进行反应速度过慢；槽液成分不对.4.3.2.孔壁有颗粒，粗糙:a化学槽有颗粒，铜粉沉积不均，开过滤机过滤.b板材本身孔壁有毛刺.4.3.3.板面发黑:a化学槽成分不对（NaOH浓度过高）.4.4镀铜镀铜即提高孔内镀层均匀性，保证整个版面（孔内及孔口附近的整个镀层）镀层厚度达到一定的要求.4.4.1电镀条件控制a电流密度的选择b电镀面积的大小c镀层厚度要求d电镀时间控制4.4.1品质管控1贯通性：自检QC全检，以40倍放大镜检查孔壁是否有镀铜完全附着贯通.2表面品质：铜箔表面不可有烧焦，脱皮，颗粒状，***及花斑不良等现象.3附着性：于板边任一处以3M胶带粘贴后，以垂直向上接起不可有脱落现象.5.线路5.1干膜干膜贴在板材上，经***后显影后，使线路基本成型，在此过程中干膜主要起到了影象转移的功能，而且在蚀刻的过程中起到保护线路的作用.5.2干膜主要构成：PE,感光阻剂，PET.其中PE和PET只起到了保护和隔离的作用.感光阻剂包括：连接剂，起始剂，单体，粘着促进剂，色料.5.3作业要求a保持干膜和板面的清洁,b平整度,无气泡和皱折现象..c附着力达到要求,密合度高.5.4作业品质控制要点5.4.1为了防止贴膜时出现断线现象，应先用无尘纸粘尘滚轮除去铜箔表面杂质.5.4.2应根据不同板材设置加热滚轮的温度，压力，转数等参数.5.4.3保证铜箔的方向孔在同一方位.5.4.4防止氧化，不要直接接触铜箔表面.5.4.5加热滚轮上不应该有伤痕，以防止产生皱折和附着性不良5.4.6贴膜后留置10—20分钟，然后再去***，时间太短会使发生的有机聚合反应未完全，太长则不容易被水解，发生残留导致镀层不良.5.4.7经常用无尘纸擦去加热滚轮上的杂质和溢胶.5.4.8要保证贴膜的良好附着性.5.5贴干膜品质确认5.5.1附着性：贴膜后经***显影后线路不可弯曲变形或断等（以放大镜检测）5.5.2平整性：须平整，不可有皱折，气泡.5.5.3清洁性：每张不得有超过5点之杂质.5.6***5.6.1.原理：使线路通过干膜的作用转移到板子上.5.6.2作业要点：a作业时要保持底片和板子的清洁.b底片与板子应对准，正确.c不可有气泡，杂质.*进行抽真空目的：提高底片与干膜接触的紧密度减少散光现象.****能量的高低对品质也有影响：1能量低，***不足，显像后阻剂太软，色泽灰暗，蚀刻时阻剂***或浮起，造成线路的断路.2.能量高，则会造成***过度，则线路会缩小或***区易洗掉.5.7显影5.7.1原理：显像即是将已经曝过光的带干膜的板材，经过(1.0+/-0.1)[%]的碳酸钠溶液(即显影液)的处理，将未***的干膜洗去而保留经***发生聚合反应的干膜,使线路基本成型.5.7.2影响显像作业品质的因素：a﹑显影液的组成b﹑显影温度.c﹑显影压力.d﹑显影液分布的均匀性.e﹑机台转动的速度.5.7.3制程参数管控：药液溶度，显影温度，显影速度，喷压.5.7.4显影品质控制要点：a﹑出料口扳子上不应有水滴，应吹干净.b﹑不可以有未撕的干膜保护膜.c﹑显像应该完整，线路不可锯齿状，弯曲，变细等状况.d﹑显像后裸铜面用刀轻刮不可有干膜脱落，否则会影响时刻品质.e﹑干膜线宽与底片线宽控制在+/-0.05mm以内的误差.f﹑线路复杂的一面朝下放置，以避免膜渣残留，减少水池效应引起的显影不均.g﹑根据碳酸钠的溶度，生产面积和使用时间来及时更新影液，保证的显影效果.h﹑应定期清洗槽内和喷管，喷头中之水垢，防止杂质污染板材和造成显影液分布不均匀性.i﹑防止操作中产生卡板，卡板时应停转动装置，立即停止放板，并拿出板材送至显影台中间，如未完全显影，应进行二次显影.j﹑显影吹干后之板子应有绿胶片隔开，防止干膜粘连而影响到时刻品质.5.8蚀刻脱膜5.8.1原理：蚀刻是在一定的温度条件下（45—50）℃蚀刻药液经过喷头均匀喷淋到铜箔的表面，与没有蚀刻阻剂保护的铜发生氧化还原反应，而将不需要的铜反应掉，露出基材再经过脱膜处理后使线路成形.5.8.2蚀刻药液的主要成分：酸性蚀刻子液(氯化铜)，***，盐酸，软水5.9蚀刻品质控制要点：5.9.1以透光方式检查不可有残铜,皱折划伤等5.9.2线路不可变形,无水滴.5.9.3时刻速度应适当，不允收出现蚀刻过度而引起的线路变细,和蚀刻不尽.5.9.4线路焊点上之干膜不得被冲刷分离或断裂5.9.5时刻剥膜后之板材不允许有油污，杂质，铜皮翘起等不良品质。5.9.6放板应注意避免卡板，防止氧化。5.9.7应保证时刻药液分布的均匀，以避免造成正反面或同一面的不同部分蚀刻不均匀。5.9.8制程管控参数：蚀刻***温度：45+/-5℃剥膜药液温度﹕55+/-5℃蚀刻温度45—50℃烘干温度﹕75+/-5℃前后板间距﹕5~10cm)