公司产品包括石英掩膜版，光刻板，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！菲林在使用中需注意的事项其他条件不变，显影液的浓度越高，温度越高，则胶片的高密越高。如果用国产的显影液(例如：爱比西SH-1000)冲洗胶片，一般要将药液按1：4～1：3稀释，要注意显影温度设定过高会使显影液因蒸发、氧化速度过快而失效，造成菲林灰雾度过高，同时高密达不到要求。推荐温度为34～36℃，并且要在显影温度稳定且达到设定温度时再测密度和做线性化。光刻机可以说每个部件都是科技含量很高，步步困难重重。瓶颈主要集中在透镜、掩膜版、光源、能量控制器等。下面简单单介绍光刻机的结构和工作原理：光刻机的光源有：激光，紫外光、深紫外光、极紫外光。现在***技术是极紫外光。下图是以激光为光源的光刻机简易工作原理图：在制造芯片时，首先在晶圆（硅晶片）表面涂光感胶，再用光线透过掩模版（相当于芯片电路图纸的底片）照射硅片表面，被光线照射到的光感胶会发生反应。此后用特定溶剂洗去被照射或者未被照射的胶，电路图就印到硅片上。此过程相当于木匠施工用墨斗放样、划线。光刻板业内又称光掩模版、掩膜版，光罩，英文名称MASK或PHOTOMASK），材质：石英玻璃、金属铬和感光胶，该产品是由石英玻璃或者苏打玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶。（感光胶又称光致抗蚀剂，是利用光化学反应进行图形转移的媒体性精细***，根据不同的用途性能等有多种型号，目前光掩模版大多数都是用的正性胶。光刻正性胶在经激光照射后，曝i光区的邻重氮萘醌化合物发生光解反应重排成羧酸，使胶膜加速溶于稀碱水溶液。）把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝i光在感光胶上，被曝i光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝i光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影***，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻，其生产加工工序为：曝i光，显影，去感光胶，***后应用于光蚀刻。光刻板-制版(图)由苏州微麦光电有限公司提供。光刻板-制版(图)是苏州微麦光电有限公司（）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：叶佳。)