掩膜除了应用于芯片制造外，还广泛的应用与像LCD，PCB等方面。常见的光掩膜的种类有四种，铬版(chrome)、干版，凸版、液体凸版。主要分两个组成部分，基板和不透光材料。基板通常是高纯度，低反射率，低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。铬的硬度比玻璃略小，虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。在刻画时，采用步进机刻画(stepper)，其中有电子束和激光之分，激光束直接在涂有铬层的4-9“玻璃板上刻画，边缘起点5mm，与电子束相比，其弧形更逼真，线宽与间距更小。光刻板业内又称光掩模版、掩膜版，光罩，英文名称MASK或PHOTOMASK），材质：石英玻璃、金属铬和感光胶，该产品是由石英玻璃或者苏打玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶。（感光胶又称光致抗蚀剂，是利用光化学反应进行图形转移的媒体性精细***，根据不同的用途性能等有多种型号，目前光掩模版大多数都是用的正性胶。光刻正性胶在经激光照射后，曝i光区的邻重氮萘醌化合物发生光解反应重排成羧酸，使胶膜加速溶于稀碱水溶液。）把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝i光在感光胶上，被曝i光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝i光后的底片的光掩模版，掩膜版，然后应用于对集成电路进行投影***，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻，其生产加工工序为：曝i光，显影，去感光胶，***后应用于光蚀刻。公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！集成电路行业中所说的“掩膜”是光掩膜光掩膜(mask)资料:在半导体制造的整个流程中，其中一部分就是从版图到wafer制造中间的一个过程，即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分，是流程中造价***i高的一部分，也是限制***i小线宽的瓶颈之一。掩膜版-制版(图)由苏州微麦光电有限公司提供。掩膜版-制版(图)是苏州微麦光电有限公司（）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：叶佳。)