规格:1.型号：HPD-2400；2.电源：三相AC380V（&plu***n;10%）3.功率：1000VA；4.电极尺寸：500mm×450mm；5.设备尺寸：720(W)×1360(H)×765(D)mm6.设备重量：180kg7.腔体压力：500~3000Pa用途：1.酶标板、***计数培养皿、细胞培养皿、***培养皿的亲水处理。经过等离子体处理后***培养皿表面由疏水变为亲水,并获得支持细胞黏附铺展的能力.并适用于细胞培养。等离子表面处理的效果可以简单地用滴水来验证，处理过的样品表面完全被水润湿。2.生物芯片、人造血管、血管支架的处理3.等离子清洗、刻蚀、等离子涂覆、等离子灰化和表面改性等场合。通过其处理，能够改善材料的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。)