Cambridge NanoTech 原子层沉积设备
Fiji系列基本性能200mm热/等离子ALD设备可选腔室尺寸:100mm,200mm或300mm标准基本卡盘温度:500℃,可选配800℃远程电感耦合等离子源,300Watt标配4个气源,可选配6个气源标配4种等离子气体,可选配6种等离子气体性能可扩展,灵活性高设备设计精简在线观察膜层模块化设计整合ALD蒸气阱可选配自动化进样室FijiG2等离子辅助ALD设备优势增强版等离子源增强版气源及气体传送增强版控制系统在线椭圆偏振测量整合了在线石英晶体微量天秤低压沉积性能高可选800℃高温版本)
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