场发射扫描电镜 SUPRA 55/55VP
SUPRA55是一款拥有第三代GEMINI镜筒的高性能场发射电子显微镜,它有***的摆动缓冲系统,并结合了5轴驱动载物台,通过不断变换电压可以获得很高的分辨率。对于使用者来说,SUPRA55的系统功能强大,可以在相对不稳定的环境下完成检测,完全分析型的场发射扫描电镜探针电流可达到20nA,适用范围如材料领域、半导体技术生命科学和纳米技术领域等。用途:扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域,进行材料的微观形貌、***、成分分析,各种材料的形貌***观察,材料断口分析和失效分析,材料实时微区成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面扫描和线扫描分布测量,晶体/晶粒的相鉴定,晶粒尺寸、形状分析,晶体、晶粒取向测量。ZEISS的场发射扫描电镜全部采用新一代专利镜筒(GEMINI)设计,具有优良的高、低加速电压性能。创新的InLens设计是目前世界上***真正的内置镜筒电子束光路上二次电子探测器,具有***佳的灵敏度和***高的接收效率,而且只接收来自样品表面的二次电子,因此具有业界***高等级的分辨率和图像质量。二次电子探测器和背散射电子探测器均内置于镜筒电子束光路上,试样的工作距离不受背散射探测器的影响,可以非常接近极靴,这样可以同时获得***高的二次电子像分辨率和背散射电子像分辨率,且接收的背散射电子的能量可以控制。ZEISS的场发射扫描电镜创造性的采用电磁、静电复合式物镜,杂散磁场小,可对铁磁体样品进行高分辨率成像。技术参数:分辨率:1.0nm@15KV1.7nm@1KV3.5nm@0.2KV4.0nm@0.1KV2.0nm@30KV(VPmode)放大倍数:12-900,000x加速电压:0.1-30KV低压范围:2-133Pa1Pa步进可调探针电流:4pA-10nA(4pA-20nA可选)样品室:330mm(Ø)x270mm(h)样品台:5轴驱动X=130mmY=130mmZ=50mm倾斜角T=-3to70°R=360°连续旋转系统控制:基于WindowsXP的***artSEM操作系统,可选鼠标、键盘、控制面板控制)
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