
光刻胶-光刻胶进口 负胶-赛米莱德(优质商家)
光刻胶存储条件及操作防护光刻胶是一种可燃液体,储存条件应符合对应的***,不要与强氧化剂混合,存放在通风良好的地方,保持容器密闭,避免吸入蒸汽或雾气,避免接触眼睛、皮肤或衣服,操作后彻底清洗。个人防护眼睛:佩戴化学飞溅护目镜。皮肤:戴上适当的防护手套防止皮肤暴露。服装:穿戴合适的防护服防止皮肤暴露。呼吸器:无论何时在工作环境下呼吸保护必须遵循中国职业安全健康***标准的规定和ANSI美国***标准学会Z88.2的相关要求,或必须执行欧洲呼吸防护EN149的标准。负性光刻胶负性光刻胶负性光刻胶分为粘性增强负性光刻胶、加工负性光刻胶、剥离处理用负性光刻胶三种。A、粘性增强负性光刻胶粘性增强负胶的应用是在设计制造中替代基于聚异戊二烯双叠氮的负胶。粘性增强负胶的特性是在湿刻和电镀应用时的粘附力;很容易用光胶剥离器去除,光刻胶进口NR9-3000PY,厚度范围是﹤0.1~120.0μm,可在i、g以及h-line波长***。粘性增强负胶对生产量的影响,消除了基于溶液的显影和基于溶液冲洗过程的步骤。优于传统正胶的优势:控制表面形貌的优异带宽、任意甩胶厚度都可得到笔直的侧壁、具有一次旋涂即可获得100μm甩胶厚度、厚胶层同样可得到优越的分辨率、150℃软烘烤的应用可缩短烘烤时间、优异的光速度进而增强***通量、更快的显影,光刻胶,100μm的光胶显影仅需6~8分钟、光胶***时不会出现光胶气泡、可将一个显影器同时应用于负胶和正胶、不必使用粘度增强剂。i线***用粘度增强负胶系列:NP9–250P、NP9–1000P、NP9–1500P、NP9–3000P、NP9–6000P、NP9–8000、NP9–8000P、NP9–20000P。g和h线***用粘度增强负胶系列:NP9G–250P、NP9G–1000P、NP9G–1500P、NP9G–3000P、NP9G–6000P、NP9G–8000。B、加工负胶加工负胶的应用是替代用于RIE加工及离子植入的正胶。加工负胶的特性在RIE加工时优异的选择性以及在离子植入时优异的温度阻抗,光刻胶进口负胶,厚度范围是﹤0.1~120.0μm,可在i、g以及h-line波长***。加工负胶优于正胶的优势是控制表面形貌的优异带宽、任意甩胶厚度都可得到笔直的侧壁、具有一次旋涂即可获得100μm甩胶厚度、厚胶层同样可得到优越的分辨率、150℃软烘烤的应用可缩短烘烤时间、优异的光速度进而增强***通量、更快的显影,光刻胶进口正胶,100μm的光胶显影仅需6~8分钟、光胶***时不会出现光胶气泡、可将一个显影器同时应用于负胶和正胶、优异的温度阻抗直至180℃、在反应离子束刻蚀或离子减薄时非常容易地增加能量密度,从而提高刻蚀速度和刻蚀通量、非常容易进行高能量离子减薄、不必使用粘度促进剂。用于i线***的加工负胶系列:NR71-250P、NR71-350P、NR71-1000P、NR71-1500P、NR71-3000P、NR71-6000P、NR5-8000。北京赛米莱德贸易有限公司供应美国Futurrex新型lift-off光刻胶NR9-3000PY,此款负胶的设计适用于比较宽的波长范围和i线(366纳米)***工具。当显影后NR9-3000PY显示出负的侧壁角度,是lift-off工艺中比较简易的光刻胶。和其他胶相比NR9i-3000PY有下面的优势:1.比较高的光刻速度,可以定制光刻速度来***产量2.比较高的分辨率和快的显影时间3.根据***能量可以比较容易的调整侧壁角度4.耐温可以达到100摄氏度5.用RR5去胶液可以很容易的去胶NR9-3000PY的制作和工艺是根据职业和环境的安全而设计。在NR9-3000PY里主要的溶剂是,NR9-3000PY的显影在水溶液里完成。属固含量(%):31-35主要溶剂:外观:浅液体涂敷能:均匀的无条纹涂敷100摄氏度热板烘烤300秒后膜厚涂敷自旋速度40秒自旋。光刻胶-光刻胶进口负胶-赛米莱德(优质商家)由北京赛米莱德贸易有限公司提供。北京赛米莱德贸易有限公司()位于北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208。在市场经济的浪潮中拼博和发展,目前赛米莱德在工业制品中拥有较高的知名度,享有良好的声誉。赛米莱德取得全网商盟认证,标志着我们的服务和管理水平达到了一个新的高度。赛米莱德全体员工愿与各界有识之士共同发展,共创美好未来。)